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1. (WO2016149050) DISPOSITIF À SOURCE DE PLASMA ET PROCÉDÉS

Pub. No.:    WO/2016/149050    International Application No.:    PCT/US2016/021878
Publication Date: Fri Sep 23 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Fri Mar 11 00:59:59 CET 2016
IPC: H05H 1/24
H05H 1/46
Applicants: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
Inventors: POLAK, Scott
CARTER, Daniel
PETERSON, Karen
GRILLY, Randy
THORNTON, Mike
HOFFMAN, Daniel J.
Title: DISPOSITIF À SOURCE DE PLASMA ET PROCÉDÉS
Abstract:
La présente invention concerne une source de plasma distante, un collecteur d'entrée de gaz, et des procédés associés de fabrication et d'utilisation. Dans certains exemples, une source de plasma distante est pourvue d'une chambre à plasma, d'un collecteur d'entrée de gaz, et d'une région de sortie. La source de plasma distante comprend également des moyens pour introduire un gaz dans la chambre à plasma, les moyens d'introduction étant conçus pour conférer une vitesse radiale et une vitesse longitudinale au gaz, par rapport à un axe longitudinal à travers la source de plasma distante.