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1. (WO2016148879) PERFECTIONNEMENT APPORTÉ À LA DISTRIBUTION DE PUISSANCE À L'AIDE D'UNE COMMANDE PSEUDO-ESR D'UN CONDENSATEUR PASSIF INTÉGRÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/148879 N° de la demande internationale : PCT/US2016/019948
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 26.02.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 22.12.2016
CIB :
H05K 1/18 (2006.01) ,H01G 4/00 (2006.01) ,H01G 4/33 (2006.01) ,H01G 4/232 (2006.01) ,H01L 23/522 (2006.01) ,H01L 23/64 (2006.01) ,H01L 23/00 (2006.01)
Déposants : QUALCOMM INCORPORATED[US/US]; ATTN: International IP Administration 5775 Morehouse Drive San Diego, California 92121-1714, US
Inventeurs : SONG, Young Kyu; US
HWANG, Kyu-Pyung; US
LEE, Jae Sik; US
Mandataire : LENKIN, Alan M.; US
Données relatives à la priorité :
14/663,34219.03.2015US
Titre (EN) POWER DISTRIBUTION IMPROVEMENT USING PSEUDO-ESR CONTROL OF AN EMBEDDED PASSIVE CAPACITOR
(FR) PERFECTIONNEMENT APPORTÉ À LA DISTRIBUTION DE PUISSANCE À L'AIDE D'UNE COMMANDE PSEUDO-ESR D'UN CONDENSATEUR PASSIF INTÉGRÉ
Abrégé : front page image
(EN) A fan-out wafer level package structure may include a multilayer redistribution layer (RDL). The multilayer RDL may be configured to couple with terminals of an embedded capacitor. The multilayer RDL may include sections with fewer layers than other sections of the multilayer RDL according to a selected equivalent series resistance (ESR) control pattern.
(FR) L'invention concerne une structure de boîtier sur plaquette de sortance qui peut comprendre une couche de redistribution (RDL) multicouche. La RDL multicouche peut être conçue pour un couplage à des bornes d'un condensateur intégré. La RDL multicouche peut comprendre des sections comportant moins de couches que d'autres sections de la RDL multicouche selon un motif de commande de résistance série équivalente (ESR) sélectionné.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)