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1. (WO2016148855) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR RÉDUIRE LE CHANGEMENT INDUIT PAR RAYONNEMENT DANS DES STRUCTURES À SEMI-CONDUCTEURS

Pub. No.:    WO/2016/148855    International Application No.:    PCT/US2016/019116
Publication Date: Fri Sep 23 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Feb 24 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/66
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: DICKERSON, Gary E.
LIM, Seng (Victor) Keong
BANNA, Samer
KIRK, Gregory
VAEZ-IRAVANI, Mehdi
Title: PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR RÉDUIRE LE CHANGEMENT INDUIT PAR RAYONNEMENT DANS DES STRUCTURES À SEMI-CONDUCTEURS
Abstract:
La présente invention concerne des modes de réalisation qui portent sur un appareil et un procédé pour réduire les effets néfastes de l'exposition de parties d'un dispositif à circuit intégré (CI) à diverses formes de rayonnement au cours d'une ou de plusieurs opérations présentes dans la séquence de traitement de formation du CI en commandant l'environnement entourant un dispositif à CI et la température pendant une ou plusieurs parties de la séquence de traitement de formation du CI. L'énergie fournie peut comprendre l'administration d'un rayonnement sur une surface d'un dispositif à CI formé ou partiellement formé pendant le dépôt, la gravure, l'inspection ou l'opération de procédé post-traitement. Dans certains modes de réalisation de la présente invention, la température du substrat sur lequel est formé le dispositif à CI est régulée à une température qui est inférieure à la température ambiante (par exemple <20 °C) pendant l'une ou les plusieurs parties de la séquence de traitement de formation du CI.