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1. (WO2016148809) COMPOSÉS DÉRIVÉS D'ACIDE SULFONIQUE EN TANT QUE GÉNÉRATEURS DE PHOTOACIDES DANS DES APPLICATIONS DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/148809    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/017573
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 11.02.2016
CIB :
C07D 221/14 (2006.01), G03F 7/025 (2006.01)
Déposants : HERAEUS PRECIOUS METALS NORTH AMERICA DAYCHEM LLC [US/US]; 970 Industrial Park Drive Vandalia, OH 45377 (US)
Inventeurs : ZHANG, Yongqiang; (US).
GREENE, Daniel; (US).
SHARMA, Ram, B.; (US)
Mandataire : ROSSI, Joseph D.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/657,387 13.03.2015 US
Titre (EN) SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUNDS AS PHOTOACID GENERATORS IN RESIST APPLICATIONS
(FR) COMPOSÉS DÉRIVÉS D'ACIDE SULFONIQUE EN TANT QUE GÉNÉRATEURS DE PHOTOACIDES DANS DES APPLICATIONS DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)Novel photoacid generator compounds are provided. Photoresist compositions that include the novel photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for various microfabrication applications.
(FR)L'invention concerne de nouveaux composés générateurs de photoacides. L'invention concerne également des compositions de résine photosensible qui comprennent ces nouveaux composés générateurs de photoacides. L'invention concerne en outre des procédés de fabrication et d'utilisation des composés générateurs de photoacides et des compositions de résine photosensible. Ces composés et compositions sont utiles comme composants photoactifs dans des compositions de résine photosensible chimiquement amplifiées pour diverses applications de microfabrication.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)