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1. (WO2016148132) FILM DE SILICE ET FILTRE À FILM DE SÉPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/148132 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/058109
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 15.03.2016
CIB :
B01D 71/02 (2006.01) ,B01D 69/00 (2006.01) ,B01D 69/02 (2006.01) ,B01D 69/10 (2006.01) ,B01D 69/12 (2006.01) ,C01B 33/12 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
71
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leurs matériaux; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
02
Matériaux inorganiques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
69
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leur forme, leur structure ou leurs propriétés; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
69
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leur forme, leur structure ou leurs propriétés; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
02
caractérisées par leurs propriétés
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
69
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leur forme, leur structure ou leurs propriétés; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
10
Membranes sur support; Supports pour membranes
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
69
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leur forme, leur structure ou leurs propriétés; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
12
Membranes composites; Membranes ultraminces
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
113
Oxydes de silicium; Leurs hydrates
12
Silice; Ses hydrates, p.ex. acide silicique lépidoïque
Déposants :
日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-city, Aichi 4678530, JP
Inventeurs :
三浦 綾 MIURA, Aya; JP
古川 昌宏 FURUKAWA, Masahiro; JP
Mandataire :
特許業務法人アイテック国際特許事務所 ITEC INTERNATIONAL PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区錦二丁目16番26号SC伏見ビル SC Fushimi Bldg., 16-26, Nishiki 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
Données relatives à la priorité :
2015-05591919.03.2015JP
Titre (EN) SILICA FILM AND SEPARATION FILM FILTER
(FR) FILM DE SILICE ET FILTRE À FILM DE SÉPARATION
(JA) シリカ膜及び分離膜フィルタ
Abrégé :
(EN) A silica film filter 10 is provided with a porous substrate 13 and a silica film 18 that is formed on the porous substrate 13 and contains an aryl group. The ratio of the number of Si atoms to the number of C atoms in the silica film 18, according to an elemental analysis performed using energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDX), is 0.2 to 15. The thickness of the silica film 18 is preferably 30 nm to 300 nm. If X is the absorption intensity of a Si-O-Si bond in the Fourier transform infrared (FTIR) absorption spectrum, and Y is the absorption intensity based on the aryl group in said spectrum, the ratio X/Y is preferably in the range of 5.0 to 200.
(FR) La présente invention concerne un filtre à film de silice 10 pourvu d'un substrat poreux 13 et d'un film de silice 18 qui est formé sur le substrat poreux 13 et contient un groupe aryle. Le rapport du nombre d'atomes de Si sur le nombre d'atomes de C dans le film de silice 18, selon une analyse élémentaire effectuée à l'aide d'une spectrométrie à dispersion d'énergie par rayons X (EDX), va de 0,2 à 15. L'épaisseur du film de silice 18 va de préférence de 30 nm à 300 nm. Si X est l'intensité d'absorption d'une liaison Si-O-Si dans le spectre d'absorption infrarouge à transformée de Fourier (FTIR), et Y est l'intensité d'absorption en se basant sur le groupe aryle dans ledit spectre, le rapport X/Y est de préférence dans la plage de 5,0 à 200.
(JA) シリカ膜フィルタ10は、多孔質基材13と、多孔質基材13上に形成されアリール基を有するシリカ膜18とを備える。このシリカ膜18は、エネルギー分散型X線分光法(EDX)での元素分析による原子数比Si/Cが0.2以上15以下の範囲である。また、シリカ膜18は、膜厚が30nm以上300nm以下の範囲であることが好ましく、フーリエ変換赤外吸収スペクトル(FT-IR)における、Si-O-Si結合の吸収強度Xとアリール基に基づく吸収強度Yとの比X/Yが5.0以上200以下の範囲であることが好ましい。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)