WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016148131) FILTRE À FILM DE SILICE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/148131    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/058108
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 15.03.2016
CIB :
B01D 71/02 (2006.01), B01D 69/00 (2006.01), B01D 69/02 (2006.01), B01D 69/10 (2006.01), B01D 69/12 (2006.01), C01B 33/12 (2006.01)
Déposants : NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-city, Aichi 4678530 (JP)
Inventeurs : MIURA, Aya; (JP).
FURUKAWA, Masahiro; (JP)
Mandataire : ITEC INTERNATIONAL PATENT FIRM; SC Fushimi Bldg., 16-26, Nishiki 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-055918 19.03.2015 JP
Titre (EN) SILICA FILM FILTER
(FR) FILTRE À FILM DE SILICE
(JA) シリカ膜フィルタ
Abrégé : front page image
(EN)A silica film filter 10 is provided with: an ultrafiltration film 15, the main component of which is an element M, said ultrafiltration film 15 being formed on a support body 14; and a silica film 18 that is formed on the ultrafiltration film 15 and has an aryl group. The ultrafiltration film 15 has a structure in which Si from the silica film 18 is permeated. The atomic ratio A (=Si/M) of Si to the element M in a film-side region 16, which is the region extending 25% into the ultrafiltration film 15 from the silica film 18, satisfies 0.01≤A≤0.5. If the atomic ratio B (=Si/M) is the ratio of Si to the element M in a substrate-side region 17, which is the region extending 25% into the ultrafiltration film 15 from the support body 14, then the ratio A/B is at least 1.1.
(FR)La présente invention concerne un filtre à film de silice 10 pourvu : d'un film d'ultrafiltration 15, dont le constituant principal est un élément M, ledit film d'ultrafiltration 15 étant formé sur un corps de support 14 ; et un film de silice 18 qui est formé sur le film d'ultrafiltration 15 et comprend un groupe aryle. Le film d'ultrafiltration 15 a une structure dans laquelle Si dans le film de silice 18 subit une perméation. Le rapport atomique A (= Si/M) de Si sur l'élément M dans une région côté film 16, qui est la région s'étendant 25 % dans le film d'ultrafiltration 15 à partir du film de silice 18, satisfait la relation 0,01 ≤ A ≤ 0,5. Si le rapport atomique B (= Si/M) est le rapport de Si sur l'élément M dans une région côté substrat 17, qui est la région s'étendant 25 % dans le film d'ultrafiltration 15 à partir du corps de support 14, alors le rapport A/B est au moins 1,1.
(JA)シリカ膜フィルタ10は、支持体14上に形成され元素Mを主成分とする限外ろ過膜15と、限外ろ過膜15上に形成されアリール基を有するシリカ膜18とを備える。この限外ろ過膜15は、シリカ膜18のSiが浸透した構造を有し、この限外ろ過膜15におけるシリカ膜18から25%の領域である膜側領域16での元素Mに対するSiの原子比A(=Si/M)が0.01≦A≦0.5を満たし、支持体14から25%の領域である基材側領域17での原子比B(=Si/M)に対する原子比Aの比であるA/Bが1.1以上の範囲を満たす。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)