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1. (WO2016147989) COMPOSÉ, RÉSINE, MATÉRIAU POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UN COMPOSÉ OU D'UNE RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/147989 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/057438
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 09.03.2016
CIB :
C07D 209/86 (2006.01) ,C07D 405/04 (2006.01) ,C08G 61/12 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.[JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
Inventeurs : OKADA, Kana; JP
HORIUCHI, Junya; JP
MAKINOSHIMA, Takashi; JP
ECHIGO, Masatoshi; JP
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; JP
Données relatives à la priorité :
2015-05073113.03.2015JP
Titre (EN) COMPOUND, RESIN, MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PURIFYING COMPOUND OR RESIN
(FR) COMPOSÉ, RÉSINE, MATÉRIAU POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UN COMPOSÉ OU D'UNE RÉSINE
(JA) 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法
Abrégé : front page image
(EN) A compound represented by formula (1). (In formula (1), each X independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or a non-crosslinked state; each R1 independently represents one moiety selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1-30 carbon atoms, an alkenyl group having 2-30 carbon atoms, an aryl group having 6-40 carbon atoms and combinations thereof, and in this connection, the alkyl group, the alkenyl group and the aryl group may contain an ether bond, a ketone bond or an ester bond; each R2 independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1-30 carbon atoms, an aryl group having 6-40 carbon atoms, an alkenyl group having 2-30 carbon atoms, a thiol group or a hydroxyl group, and in this connection, at least one R2 moiety is a group containing a hydroxyl group or a thiol group; each m independently represents an integer of 1-7; each p independently represents 0 or 1; each q independently represents an integer of 0-4; and n represents 0 or 1.)
(FR) L'invention concerne un composé représenté par la formule (1). (Dans la formule (1), chaque X représente indépendamment un atome d'oxygène, un atome de soufre ou un état non-réticulé ; chaque R1 représente indépendamment une fraction choisie dans le groupe constitué d'un atome d'hydrogène, d'un groupe halogène, d'un groupe nitro, d'un groupe amino, d'un groupe hydroxyle, d'un groupe alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone, d'un groupe alcényle ayant de 2 à 30 atomes de carbone, d'un groupe aryle ayant de 6 à 40 atomes de carbone et des combinaisons de ceux-ci, et à cet égard, le groupe alkyle, le groupe alcényle et le groupe aryle peuvent contenir une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester ; chaque R2 représente indépendamment un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique ayant de 1 à 30 atomes de carbone, un groupe aryle ayant de 6 à 40 atomes de carbone, un groupe alcényle ayant de 2 à 30 atomes de carbone, un groupe thiol ou un groupe hydroxyle, et à cet égard, au moins une fraction R2 est un groupe contenant un groupe hydroxyle ou un groupe thiol ; chaque m représente indépendamment un nombre entier de 1 à 7 ; chaque p représente indépendamment 0 ou 1 ; chaque q représente indépendamment un nombre entier de 0-4 ; et n représente 0 ou 1.)
(JA)  下記式(1)で表される、化合物。(式(1)中、Xは、各々独立して、酸素原子、硫黄原子又は無架橋であることを示し、Rは、各々独立して、水素原子、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、炭素原子数1~30のアルキル基、炭素原子数2~30のアルケニル基、炭素原子数6~40のアリール基、及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、ここで、該アルキル基、該アルケニル基及び該アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Rは、各々独立して、炭素数1~30の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6~40のアリール基、炭素数2~30のアルケニル基、チオール基又は水酸基であり、ここで、Rの少なくとも1つは水酸基又はチオール基を含む基であり、mは、各々独立して、1~7の整数であり、pは各々独立して0又は1であり、qは各々独立して0~4の整数であり、nは0又は1である。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)