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1. (WO2016147959) FILM ÉTANCHE AU GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/147959 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/057210
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 08.03.2016
CIB :
B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC.[JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
Inventeurs : ARITA, Hiroaki; JP
Mandataire : HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
Données relatives à la priorité :
2015-05522918.03.2015JP
Titre (EN) GAS BARRIER FILM
(FR) FILM ÉTANCHE AU GAZ
(JA) ガスバリア性フィルム
Abrégé : front page image
(EN) [Problem] To provide a gas barrier film having excellent flexibility, and high storage stability. [Solution] This gas barrier film includes a resin base material, and a gas barrier layer formed by vacuum deposition, the gas barrier layer being an oxide-nitride film containing Si, O, and N, and at least one atom M selected from the group consisting of V, Nb, and Ta.
(FR) [Problème] Fournir un film étanche au gaz ayant une excellente flexibilité et une stabilité au stockage élevée. [Solution] La présente invention concerne un film étanche au gaz comprenant un matériau de base en résine et une couche étanche au gaz formée par dépôt sous vide, cette couche étanche au gaz étant un film d'oxyde-nitrure contenant Si, O et N, et au moins un atome M choisi dans le groupe comprenant V, Nb et Ta.
(JA) 【課題】優れた屈曲性を有し、保存安定性の高いガスバリア性フィルムを提供することである。【解決手段】樹脂基材と、真空成膜法によって形成されてなる、ガスバリア層と、を含み、前記ガスバリア層が、Si、OおよびNと;V、NbおよびTaからなる群から選択される少なくとも1種の原子Mと;を含む酸化窒化膜である、ガスバリア性フィルム。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)