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1. (WO2016147941) MATÉRIAU INHIBITEUR DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE

Pub. No.:    WO/2016/147941    International Application No.:    PCT/JP2016/057067
Publication Date: Fri Sep 23 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Mar 09 00:59:59 CET 2016
IPC: C23C 16/04
H01G 4/12
H01G 4/33
Applicants: MURATA MANUFACTURING CO., LTD.
株式会社村田製作所
Inventors: IWAJI, Naoki
岩地 直樹
Title: MATÉRIAU INHIBITEUR DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE
Abstract:
La présente invention concerne un matériau inhibiteur de dépôt de couche atomique conçu à partir d'une résine contenant du fluor dont la teneur en fluor est de 30 % atomique ou plus, ayant au moins un carbone tertiaire ou quaternaire, de carbone, et ne comprenant pas de groupes ester, de groupes hydroxyle, de groupes carboxyle et de groupes imide.