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1. (WO2016147702) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, MOTIFS DE PRODUIT DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2016/147702    International Application No.:    PCT/JP2016/052255
Publication Date: Fri Sep 23 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Thu Jan 28 00:59:59 CET 2016
IPC: G03F 7/11
G03F 7/038
G03F 7/039
G03F 7/20
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: INOUE Naoki
井上 尚紀
TANGO Naohiro
丹呉 直紘
SHIRAKAWA Michihiro
白川 三千紘
YAMAMOTO Kei
山本 慶
GOTO Akiyoshi
後藤 研由
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, MOTIFS DE PRODUIT DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L'invention concerne un procédé de formation de motifs, comprenant : une étape consistant à appliquer, sur un substrat, une composition de résine sensible aux radiations ou sensible aux rayons actiniques contenant une résine dans laquelle la polarité augmente sous l'effet d'un acide, et à former un film de réserve ; une étape consistant à former un film de couche supérieure sur le film de réserve ; une étape consistant à exposer le film de réserve sur lequel le film de couche supérieure est formé; et une étape consistant à développer le film de réserve exposé à l'aide d'un révélateur organique, et à former un motif. La résine dans laquelle la polarité est augmentée par l'effet d'un acide comprend une unité de répétition décomposable par un acide ayant un groupe A C4-7 éliminable par acide, et la vitesse de protection et la valeur maximale du nombre d'atomes de carbone dans le groupe A éliminable par acide satisfont à une condition spécifique.