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1. (WO2016147356) COMPOSÉ DE SEL DE SULFONIUM AROMATIQUE, GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, COMPOSITION DE RÉSERVE, INITIATEUR DE POLYMÉRISATION CATIONIQUE, ET COMPOSITION POLYMÉRISABLE PAR VOIE CATIONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/147356    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/058119
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 18.03.2015
CIB :
C07D 311/16 (2006.01), C08G 59/68 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1160012 (JP)
Inventeurs : YANAGISAWA Satoshi; (JP).
TODA Hitomi; (JP).
SHIGENO Koichi; (JP).
KIMURA Masaki; (JP)
Mandataire : HONDA Ichiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) AROMATIC SULFONIUM SALT COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION
(FR) COMPOSÉ DE SEL DE SULFONIUM AROMATIQUE, GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, COMPOSITION DE RÉSERVE, INITIATEUR DE POLYMÉRISATION CATIONIQUE, ET COMPOSITION POLYMÉRISABLE PAR VOIE CATIONIQUE
(JA) 芳香族スルホニウム塩化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: an aromatic sulfonium salt compound that exhibits low corrosion with respect to a substrate, that has excellent photolithographic characteristics, and that is useful in a photoacid generator and a cationic polymerization agent; and a photoacid generator, a resist composition, a cationic polymerization initiator, and a cationically polymerizable composition that use the aromatic sulfonium salt compound. The aromatic sulfonium salt compound is represented by general formula (I) (in formula (I), R1 to R10 each independently represent an alkyl group or the like that has 1 to 18 carbon atoms and that may comprise a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, or a substituent group, R11 to R15 each independently represent an alkoxy group or the like that has 1 to 18 carbon atoms and that may comprise a hydrogen atom or a substituent group, one or more of R11 to R15 is not a hydrogen atom, and X1- represents a monovalent organic sulfonic acid anion).
(FR)L'invention concerne : un composé de sel de sulfonium aromatique qui manifeste une faible corrosion par rapport à un substrat, qui a d'excellentes caractéristiques photolithographiques, et qui est utile dans un générateur de photoacide et un agent de polymérisation cationique ; et un générateur de photoacide, une composition de réserve, un initiateur de polymérisation cationique, et une composition polymérisable par voie cationique qui utilisent ledit composé de sel de sulfonium aromatique. Le composé de sel de sulfonium aromatique est représenté par la formule générale (I) (dans la formule (I), R1 à R10 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle ou autre ayant de 1 à 18 atomes de carbone et qui peut comprendre un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un groupe hydroxyle, un groupe nitro, un groupe cyano, ou un groupe de substitution, R11 à R15 représentent chacun indépendamment un groupe alcoxy ou autre ayant de 1 à 18 atomes de carbone et qui peut comprendre un atome d'hydrogène ou un groupe de substitution, un ou plusieurs des R11 à R15 n'étant pas un atome d'hydrogène, et X1 - représente un anion acide sulfonique organique monovalent).
(JA) 基板への腐食性が低く、フォトリソグラフィー特性に優れる光酸発生剤およびカチオン重合剤に有用な芳香族スルホニウム塩化合物、これを用いた光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合剤組成物を提供する。 下記一般式(I)、(式(I)中、R~R10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよい炭素原子数1~18のアルキル基等を表し、R11~R15は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1~18のアルコキシ基等を表し、R11~R15のうち1つ以上は水素原子でなく、Xは1価の有機スルホン酸陰イオンを表す。)で表される芳香族スルホニウム塩化合物である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)