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1. (WO2016145147) MESURE DES DIMENSIONS CRITIQUES DE NANOSTRUCTURES À L'AIDE D'UNE DIFFRACTION DANS LE PLAN EN INCIDENCE RASANTE DES RAYONS X

Pub. No.:    WO/2016/145147    International Application No.:    PCT/US2016/021694
Publication Date: Fri Sep 16 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Fri Mar 11 00:59:59 CET 2016
IPC: G01N 23/20
G01N 23/083
G01N 23/201
Applicants: LYNCEAN TECHNOLOGIES, INC.
Inventors: RUTH, Ronald, D.
LOEWEN, Roderick, J.
GIFFORD, Martin, A.
Title: MESURE DES DIMENSIONS CRITIQUES DE NANOSTRUCTURES À L'AIDE D'UNE DIFFRACTION DANS LE PLAN EN INCIDENCE RASANTE DES RAYONS X
Abstract:
L'invention concerne une structure fabriquée qui est éclairée avec un faisceau de rayons X. La structure fabriquée est positionnée selon un angle rasant sélectionné et un angle de rotation sélectionné par rapport au faisceau de rayons X. L'angle de rotation sélectionné a été sélectionné afin d'améliorer une diffraction dans le plan des réflexions du faisceau de rayons X par la structure fabriquée. Un faisceau de diffraction rasante dans le plan produit par une interférence avec la caractéristique périodique est détecté. Une propriété du faisceau de diffraction rasante dans le plan est déterminée par la dimension critique.