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1. (WO2016144431) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE SUIVI D'OBJET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/144431 N° de la demande internationale : PCT/US2016/014745
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 25.01.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 04.08.2016
CIB :
G06T 7/20 (2006.01)
Déposants : QUALCOMM INCORPORATED[US/US]; Attn: International IP Administration 5775 Morehouse Drive San Diego, California 92121-1714, US
Inventeurs : SUNDARESAN, Sairam; US
GAO, Dashan; US
ZHONG, Xin; US
QI, Yingyong; US
Mandataire : AUSTIN, Wesley L.; US
Données relatives à la priorité :
14/792,43606.07.2015US
62/132,33212.03.2015US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR OBJECT TRACKING
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE SUIVI D'OBJET
Abrégé :
(EN) A method performed by an electronic device is described. The method includes determining a local motion pattern by determining a set of local motion vectors within a region of interest between a previous frame and a current frame. The method also includes determining a global motion pattern by determining a set of global motion vectors between the previous frame and the current frame. The method further includes calculating a separation metric based on the local motion pattern and the global motion pattern. The separation metric indicates a motion difference between the local motion pattern and the global motion pattern. The method additionally includes tracking an object based on the separation metric.
(FR) L'invention concerne un procédé mis en oeuvre par un dispositif électronique. Le procédé comprend le fait de déterminer un schéma de mouvement local par détermination d'un ensemble de vecteurs de mouvement local à l'intérieur d'une région d'intérêt entre une trame précédente et une trame actuelle. Le procédé comprend également le fait de déterminer un schéma de mouvement global par détermination d'un ensemble de vecteurs de mouvement global entre la trame précédente et la trame actuelle. Le procédé comprend en outre le calcul d'une métrique de séparation sur la base du schéma de mouvement local et le schéma de mouvement global. La métrique de séparation indique une différence de mouvement entre le schéma de mouvement local et le schéma de mouvement global. Le procédé consiste en outre à suivre un objet sur la base de la métrique de séparation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)