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1. (WO2016144228) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN BUTANAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/144228    N° de la demande internationale :    PCT/SE2016/000008
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 04.03.2016
CIB :
C07C 47/02 (2006.01), C07B 35/00 (2006.01), B01J 23/44 (2006.01)
Déposants : PERSTORP AB [SE/SE]; SE-284 80 Perstorp (SE).
SU HOLDING AB [SE/SE]; Universitetsvägen 8 SE-106 91 Stockholm (SE)
Inventeurs : LUNDMARK, Stefan; (SE).
BÄCKVALL, Jan-Erling; (SE).
MARTÍN-MATUTE, Belén; (SE).
NAGENDIRAN, Anuja; (SE).
VERHO, Oscar; (SE)
Mandataire : SYLEGÅRD, Ingvar; Perstorp AB 284 80 Perstorp (SE)
Données relatives à la priorité :
1500125-8 10.03.2015 SE
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF A BUTANAL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN BUTANAL
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a process for production of a butanal wherein said butanal is obtained by chemoselective C=C hydrogenation of a butenal in presence of a catalyst comprising palladium nanoparticles being immobilised in the cavities of a silica based mesocellular foam (MCF). The butanal yield in said process is >99% and the butenal selectivity is likewise >99%. The process is performed at a temperature of 15-30°C, at atmospheric pressure and at a reaction time of 10-30.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un butanal, ledit butanal étant obtenu par hydrogénation C=C chimiosélective d'un buténal en présence d'un catalyseur comprenant des nanoparticules de palladium immobilisées dans les cavités d'une mousse mésocellulaire à base de silice (MCF). Le rendement en butanal dans ledit procédé est > 99 % et la sélectivité envers le buténal est également > 99 %. Le procédé est mis en œuvre à une température de 15-30 °C, à la pression atmosphérique et pendant un temps de réaction de 10 à 30 minutes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)