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1. (WO2016144054) CAPTEUR DE PLUIE ET APPAREIL D'ENTRAÎNEMENT D'ESSUIE-GLACE COMPRENANT CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/144054    N° de la demande internationale :    PCT/KR2016/002197
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 04.03.2016
CIB :
B60S 1/08 (2006.01), G01N 27/06 (2006.01)
Déposants : LG INNOTEK CO., LTD. [KR/KR]; 98, Huam-ro, Jung-gu Seoul 04637 (KR)
Inventeurs : JI, Chil Young; (KR).
CHANG, Ki Chul; (KR)
Mandataire : KIM, Ki Moon; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2015-0034390 12.03.2015 KR
Titre (EN) RAIN SENSOR AND WIPER DRIVING APPARATUS COMPRISING SAME
(FR) CAPTEUR DE PLUIE ET APPAREIL D'ENTRAÎNEMENT D'ESSUIE-GLACE COMPRENANT CE DERNIER
(KO) 레인 센서 및 이를 포함하는 와이퍼 구동 장치
Abrégé : front page image
(EN)A rain sensor according to an embodiment comprises: a substrate; a sensing electrode on a first surface of the substrate; a reaction layer which is formed on the first surface of the substrate and covers the top surface of the substrate and the sensing electrode; a driving unit electrically connected to the sensing electrode formed on the first surface of the substrate, for processing sensing signals transmitted via the sensing electrode; and a protection layer formed to surround the driving unit, wherein the reaction layer has an impedance value which varies according to a change in at least one of the force and dielectric constant caused by rainfall, and the sensing electrode transmits the sensing signals with regard to the variation in the impedance value of the reaction layer.
(FR)Un mode de réalisation de la présente invention concerne un capteur de pluie comprenant : un substrat; une électrode de détection formée sur une première surface du substrat; une couche de réaction qui est formée sur la première surface du substrat et qui recouvre la surface supérieure du substrat et l'électrode de détection; une unité d'entraînement électriquement connectée à l'électrode de détection formée sur la première surface du substrat pour le traitement de signaux de détection transmis par l'intermédiaire de l'électrode de détection; et une couche de protection formée de manière à entourer l'unité d'entraînement, la couche de réaction présentant une valeur d'impédance qui varie en fonction d'un changement d'une force et/ou d'une constante diélectrique en raison d'une averse, et l'électrode de détection transmettant les signaux de détection par rapport à la variation de la valeur d'impédance de la couche de réaction.
(KO)실시 예에 따른 레인 센서는, 기판; 상기 기판의 제 1 면에 형성되는 감지 전극; 상기 기판의 제 1 면위에 형성되어 상기 기판의 상면 및 상기 감지 전극을 매립하는 반응층; 상기 기판의 제 1 면에 형성된 감지 전극과 전기적으로 연결되며, 상기 감지 전극을 통해 전달되는 감지 신호를 처리하는 구동부; 및 상기 구동부를 둘러싸며 형성되는 보호층을 포함하며, 상기 반응층은, 강우 여부에 의해 발생하는 힘 및 유전 상수 중 적어도 어느 하나의 변화에 따른 임피던스 값이 변화하며, 상기 감지 전극은, 상기 반응층의 임피던스 값의 변화량에 대한 상기 감지 신호를 상기 구동부로 전달한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)