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1. (WO2016142542) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MICRO-GÉNÉRATEUR MÉCANO-ÉLECTRIQUE FLEXIBLE ET MICRO-GÉNÉRATEUR CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/142542    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/055375
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 11.03.2016
CIB :
H01L 41/08 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITE DE NANTES [FR/FR]; BP 13522 1, Quai de Tourville 44035 Nantes Cedex 1 (FR).
CNRS [FR/FR]; 3 rue Michel Ange 75016 Paris 16 (FR)
Inventeurs : SEVENO, Raynald; (FR).
GUIFFARD, Benoît; (FR).
DUFAY, Thibault; (FR)
Mandataire : GUENE, Patrick; (FR)
Données relatives à la priorité :
1552050 12.03.2015 FR
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING A FLEXIBLE MECHANOELECTRICAL MICROGENERATOR AND CORRESPONDING MICROGENERATOR
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MICRO-GÉNÉRATEUR MÉCANO-ÉLECTRIQUE FLEXIBLE ET MICRO-GÉNÉRATEUR CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method for producing a mechanoelectrical microgenerator, comprising the following steps: deposition (200), on an electroconductive thin substrate forming a lower electrode, of a thin layer of piezoelectric material, called an active layer; deposition (220), on the active layer, of a thin layer of electroconductive material forming an upper electrode, so as to form a base structure made up of thin layers; and encapsulation (230) of said base structure in a thin coating layer based on at least one elastically deformable polymer material.
(FR)Il est proposé un procédé de fabrication d'un micro-générateur mécano-électrique, comprenant les étapes suivantes: dépôt (200), sur un substrat mince électriquement conducteur formant une électrode inférieure, d'une couche mince de matériau piézoélectrique, dite couche active; dépôt (220), sur la couche active, d'une couche mince de matériau électriquement conducteur formant une électrode supérieure, de façon à former une structure de base en couches minces; encapsulation (230) de ladite structure de base dans une couche de revêtement mince à base d'au moins un matériau polymère élastiquement déformable.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)