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1. (WO2016142400) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN DISPOSITIF AU GRAPHÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/142400    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/054963
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 09.03.2016
CIB :
C01B 31/04 (2006.01), G06F 3/01 (2006.01)
Déposants : CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, Rue Michel Ange 75794 Paris Cedex 16 (FR).
UNIVERSITE GRENOBLE ALPES [FR/FR]; 621, Avenue Centrale 38401 Saint Martin D'heres (FR)
Inventeurs : KALITA, Dipankar; (FR).
BOUCHIAT, Vincent; (FR).
MARTY, Laetitia; (FR).
BENDIAB, Nedjma; (FR)
Mandataire : CABINET BEAUMONT; 1, Rue Champollion 38000 Grenoble (FR)
Données relatives à la priorité :
1551931 09.03.2015 FR
Titre (EN) METHOD OF FORMING A GRAPHENE DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN DISPOSITIF AU GRAPHÈNE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method of forming a graphene device, the method comprising: forming a graphene film (100) over a substrate; depositing, by gas phase deposition, a polymer material covering a surface of the graphene film (100); and removing the substrate from the graphene film (100), wherein the polymer material forms a support (102) for the graphene film (100).
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un dispositif au graphène, le procédé comprenant les étapes consistant à : former un film de graphène (100) sur un substrat ; déposer, par dépôt en phase gazeuse, un matériau polymère recouvrant une surface du film de graphène (100) ; et retirer le substrat du film de graphène (100), le matériau polymère formant un support (102) pour le film de graphène (100).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)