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1. (WO2016142169) CO-OPTIMISATION DE DOSE DE MISE AU POINT SUR LA BASE D'UNE FENÊTRE DE PROCESSUS DE CHEVAUCHEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/142169 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/053742
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 23.02.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs : HUNSCHE, Stefan; US
JANG, Chiou-Hung; US
JOCHEMSEN, Marinus; US
TOMASELLO, Vito; US
Mandataire : PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/129,40506.03.2015US
Titre (EN) FOCUS-DOSE CO-OPTIMIZATION BASED ON OVERLAPPING PROCESS WINDOW
(FR) CO-OPTIMISATION DE DOSE DE MISE AU POINT SUR LA BASE D'UNE FENÊTRE DE PROCESSUS DE CHEVAUCHEMENT
Abrégé : front page image
(EN) Disclosed herein is a computer-implemented method to improve a lithographic process of processing a portion of a design layout onto a substrate using a lithographic apparatus, the method including: adjusting a first processing parameter among processing parameters of the lithographic process to cause the processing to be more tolerant to perturbations of at least one of the processing parameters during processing; and adjusting a second processing parameter among processing parameters of the lithographic process to cause the processing to be more tolerant to perturbations of at least one of the processing parameters during processing.
(FR) L'invention concerne un procédé mis en oeuvre par ordinateur pour améliorer un processus lithographique de traitement d'une partie d'un schéma de conception sur un substrat à l'aide d'un appareil lithographique, le procédé comprenant les étapes consistant à : régler un premier paramètre de traitement parmi des paramètres de traitement du procédé lithographique afin de faire en sorte que le traitement soit plus tolérant vis-à-vis de perturbations d'au moins l'un des paramètres de traitement pendant le traitement; et régler un second paramètre de traitement parmi des paramètres de traitement du procédé lithographique afin de faire en sorte que le traitement soit plus tolérant vis-à-vis de perturbations d'au moins l'un des paramètres de traitement pendant le traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)