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1. (WO2016141675) ÉQUIPEMENT DE GRAVURE PAR VOIE HUMIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/141675    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/087022
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 14.08.2015
CIB :
H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Road, Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : XUE, Dapeng; (CN)
Mandataire : CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD.; 22/F, Great Eagle Centre 23 Harbour Road, Wanchai Hong Kong (CN)
Données relatives à la priorité :
201510107896.8 12.03.2015 CN
Titre (EN) WET ETCHING EQUIPMENT
(FR) ÉQUIPEMENT DE GRAVURE PAR VOIE HUMIDE
(ZH) 湿法刻蚀设备
Abrégé : front page image
(EN)Provided is wet etching equipment. The wet etching equipment comprises an etching cavity (200) having an etching cavity inlet (203) located at the front end and an etching cavity outlet (204) located at the rear end, wherein inside the etching cavity (200), a thin film to be etched on a substrate (400) is etched by an etching liquid; and a decrystallization device (500) which cleans the residual etching liquid or an etching liquid crystal (601) formed from the etching liquid at the etching cavity inlet (203) and/or the etching cavity outlet (204) using a cleaning liquid. With the decrystallization device, the present invention can effectively remove the residual etching liquid or the etching liquid crystal formed from the etching liquid at the etching cavity inlet and the etching cavity outlet, thereby improving the utilization and cleanliness of the equipment and the product quality.
(FR)La présente invention porte sur un équipement de gravure par voie humide. L'équipement de gravure par voie humide comprend une cavité de gravure (200) ayant une entrée de cavité de gravure (203) positionnée au niveau de l'extrémité avant et une sortie de cavité de gravure (204) positionnée au niveau de l'extrémité arrière, à l'intérieur de la cavité de gravure (200), un film mince à graver sur un substrat (400) étant gravée par un liquide de gravure ; et un dispositif de décristallisation (500) qui nettoie le liquide de gravure résiduel ou un cristal de liquide de gravure (601) formé à partir du liquide de gravure au niveau de l'entrée de cavité de gravure (203) et/ou de la sortie de cavité de gravure (204) à l'aide d'un liquide de nettoyage. Avec le dispositif d'une décristallisation, la présente invention peut éliminer de manière efficace le liquide de gravure résiduel ou le cristal de liquide de gravure formé à partir du liquide de gravure au niveau de l'entrée de cavité de gravure et de la sortie de cavité de gravure, ce qui permet d'améliorer l'utilisation et la propreté de l'équipement et la qualité de produit.
(ZH)一种湿法刻蚀设备。该湿法刻蚀设备包括:刻蚀腔(200),其具有位于前端的刻蚀腔入口(203)和位于后端的刻蚀腔出口(204),其中在该刻蚀腔(200)内,基片(400)上的待刻蚀薄膜通过刻蚀液进行刻蚀;以及去结晶装置(500),其利用清洗液清洗在刻蚀腔入口(203)和/或刻蚀腔出口(204)处残留的刻蚀液或由刻蚀液形成的刻蚀液结晶(601)。本发明通过去结晶装置,可有效去除在刻蚀腔入口和刻蚀腔出口处残留的刻蚀液或由刻蚀液形成的刻蚀液结晶,藉此提高设备的稼动率和洁净度以及产品质量。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)