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1. (WO2016141420) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE SÉCURITÉ PAR IMAGE CACHÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/141420    N° de la demande internationale :    PCT/AU2016/050138
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 03.03.2016
CIB :
B42D 25/364 (2014.01), G07D 7/12 (2016.01), G02B 5/18 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), B42D 15/00 (2006.01), G02B 27/28 (2006.01), B44F 1/10 (2006.01), B41M 3/00 (2006.01)
Déposants : CCL SECURE PTY LTD [AU/AU]; 1-17 Potter Street Craigieburn, Victoria 3064 (AU)
Inventeurs : POWER, Gary Fairless; (AU).
LOK, Phei; (AU)
Données relatives à la priorité :
2015100280 06.03.2015 AU
2015900803 06.03.2015 AU
Titre (EN) A HIDDEN IMAGE SECURITY DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE SÉCURITÉ PAR IMAGE CACHÉE
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing an optical device, preferably a security device, including the steps of: forming a planar relief structure on a substantially planar first surface of a substrate, preferably a transparent substrate, the planar relief structure having a first alignment direction and including a plurality of relief structure elements each having the same height; and applying a liquid crystal polymer (LCP) layer onto the planar relief structure such that the LCP layer is aligned with the relief structure, wherein the LCP layer includes at least one or more first LCP regions having a first height and one or more second LCP regions having a second height above the substantially planar first surface of the substrate, wherein the second height is different to the first height, and an optical device formed by such a method.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de dispositif optique, de préférence un dispositif de sécurité, consistant à former une structure plane à relief sur la première surface sensiblement plane d'un substrat, de préférence un substrat transparent, la structure plane à reliefs présentant un premier sens d'alignement et comprenant une pluralité d'éléments de structure à relief présentant chacun la même hauteur; et à appliquer une couche polymère à cristaux liquides (LCP) sur la structure plane à relief de telle sorte que la couche LCP est alignée avec la structure à relief. La couche de LCP comprend au moins une ou plusieurs première(s) région(s) de LCP présentant une première hauteur et une ou plusieurs seconde(s) région(s) de LCP présentant une seconde hauteur au-dessus de la première surface sensiblement plane du substrat, la seconde hauteur étant différente de la première hauteur; et un dispositif optique formé par le procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)