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1. (WO2016140321) CAPTEUR POUR DISPOSITIF DE CONTRÔLE D'ÉPAISSEUR DE FILM, DISPOSITIF DE CONTRÔLE D'ÉPAISSEUR DE FILM ÉQUIPÉ DE CELUI-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CAPTEUR POUR DISPOSITIF DE CONTRÔLE D'ÉPAISSEUR DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/140321 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/056647
Date de publication : 09.09.2016 Date de dépôt international : 03.03.2016
CIB :
G01N 5/02 (2006.01) ,C23C 14/54 (2006.01) ,G01B 21/08 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
5
Analyse des matériaux par pesage, p.ex. pesage des fines particules séparées d'un gaz ou d'un liquide
02
en absorbant ou adsorbant les constituants d'un matériau et en déterminant la variation de poids de l'adsorbant, p.ex. en déterminant la teneur en eau
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
54
Commande ou régulation du processus de revêtement
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
21
Dispositions pour la mesure ou leurs détails pour autant qu'ils ne soient pas adaptés à des types particuliers de moyens de mesure faisant l'objet des autres groupes de la présente sous-classe
02
pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
08
pour mesurer l'épaisseur
Déposants : ULVAC, INC.[JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
Inventeurs : ITOH, Atsushi; JP
Mandataire : SHIMIZU, Yoshihiro; JP
Données relatives à la priorité :
2015-04106503.03.2015JP
Titre (EN) SENSOR FOR FILM THICKNESS MONITORING DEVICE, FILM THICKNESS MONITORING DEVICE PROVIDED WITH SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SENSOR FOR FILM THICKNESS MONITORING DEVICE
(FR) CAPTEUR POUR DISPOSITIF DE CONTRÔLE D'ÉPAISSEUR DE FILM, DISPOSITIF DE CONTRÔLE D'ÉPAISSEUR DE FILM ÉQUIPÉ DE CELUI-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CAPTEUR POUR DISPOSITIF DE CONTRÔLE D'ÉPAISSEUR DE FILM
(JA) 膜厚監視装置用センサ、それを備えた膜厚監視装置、および膜厚監視装置用センサの製造方法
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a sensor for a film thickness monitoring device and a film thickness monitoring device provided with the same, whereby the precision of film thickness measurement can be enhanced by a simple configuration and a highly precise film formation rate can be realized. [Solution] The present invention is provided with: an SC-Cut quartz oscillator having a quartz plate which is θ-rotated about the Z axis and φ-rotated about the X axis in an orthogonal coordinate system of an X axis, a Y axis, and a Z axis which are the quartz crystal axes, and having θ and φ whereby the frequency deviation of the quartz oscillator at a temperature of 10-170°C is ±20 ppm or less; and a sensor head for retaining the quartz oscillator, the sensor head not having a cooling means for cooling the quartz oscillator.
(FR) Le problème posé est de produire un capteur pour un dispositif de contrôle d'épaisseur de film et un dispositif de contrôle d'épaisseur de film doté de celui-ci, la précision de mesure d'épaisseur de film pouvant être obtenue par une configuration simple et par une vitesse de formation de film extrêmement précise. La solution selon la présente invention comprend: un oscillateur à quartz à coupe SC comportant une plaque de quartz qui est mise en rotation thêta autour de l'axe Z et mise en rotation phi autour de l'axe X dans un système de coordonnées orthogonales d'un axe X, d'un axe Y et d'un axe Z qui sont les axes de cristal de quartz, et ayant thêta et phi, l'écart de fréquence de l'oscillateur à quartz à une température comprise entre 10 et 170 °C étant inférieur ou égal à ± 20 ppm ; et une tête de capteur pour retenir l'oscillateur à quartz, la tête de capteur ne comportant pas de moyen de refroidissement pour refroidir ledit oscillateur à quartz.
(JA) 【課題】簡素な構成により膜厚の測定精度を向上させ、高精度な成膜レートを実現することができる膜厚監視装置用センサおよびそれを用いた膜厚監視装置を提供する。 【解決手段】水晶結晶軸である直交座標系X軸、Y軸、Z軸においてZ軸周りにθ回転し、X軸周りにφ回転した水晶板を有し、水晶振動子の温度が10~170℃における周波数偏差が±20ppm以下となるθおよびφを有するSC-Cut水晶振動子と、水晶振動子を保持し、水晶振動子を冷却する冷却手段を有しないセンサヘッドとを備えた。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)