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1. (WO2016140081) MATÉRIAU DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/140081    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/054824
Date de publication : 09.09.2016 Date de dépôt international : 19.02.2016
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), C08G 14/12 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
Inventeurs : OKADA, Kana; (JP).
MAKINOSHIMA, Takashi; (JP).
ECHIGO, Masatoshi; (JP).
HIGASHIHARA, Go; (JP).
OKOSHI, Atsushi; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-041370 03.03.2015 JP
Titre (EN) UNDERLAYER FILM-FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND CIRCUIT PATTERN-FORMING METHOD
(FR) MATÉRIAU DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT
(JA) リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides an underlayer film-forming material that is to be used in lithography, contains a cyanate ester compound, and is obtained by cyanating a modified naphthalene formaldehyde resin.
(FR)La présente invention concerne un matériau de formation de film de sous-couche destiné à être utilisé en lithographie, contenant un composé d'ester de cyanate, et obtenu par cyanation de résine de formaldéhyde de naphtalène modifiée.
(JA) 本発明は、変性ナフタレンホルムアルデヒド樹脂をシアネート化して得られる、シアン酸エステル化合物を含む、リソグラフィー用下層膜形成用材料、を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)