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1. (WO2016140021) MATÉRIAU CIBLE CÉRAMIQUE CYLINDRIQUE CREUX, ET CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE CREUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/140021 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/053743
Date de publication : 09.09.2016 Date de dépôt international : 09.02.2016
CIB :
C23C 14/34 (2006.01) ,C04B 37/02 (2006.01)
Déposants : MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.[JP/JP]; 1-11-1, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584, JP
Inventeurs : ISHIDA, Shintaro; JP
Mandataire : SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
Données relatives à la priorité :
2015-04399705.03.2015JP
Titre (EN) HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL, AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
(FR) MATÉRIAU CIBLE CÉRAMIQUE CYLINDRIQUE CREUX, ET CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE CREUX
(JA) セラミックス円筒形ターゲット材および円筒形スパッタリングターゲット
Abrégé : front page image
(EN) The hollow cylindrical ceramic target material according to the present embodiment has a surface roughness Ra of 1.2 μm or less on the inner-peripheral surface.
(FR) Selon un mode de réalisation, l'invention concerne un matériau cible céramique cylindrique creux présentant une rugosité de surface Ra de 1,2 µm ou moins sur la surface périphérique interne.
(JA)  実施形態に係るセラミックス円筒形ターゲット材は、内周面の表面粗さRaが1.2μm以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)