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1. (WO2016139705) FILM DE TRANSFERT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM DE TRANSFERT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/139705    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/005902
Date de publication : 09.09.2016 Date de dépôt international : 27.11.2015
CIB :
B44C 1/17 (2006.01), B29C 45/14 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), B32B 38/18 (2006.01)
Déposants : PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
Inventeurs : KANEUCHI, Kazuhiko; (--).
SHIBATA, Gakuei; (--).
INOUE, Tomoyuki; (--)
Mandataire : KAMATA, Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-039738 02.03.2015 JP
Titre (EN) TRANSFER FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER FILM
(FR) FILM DE TRANSFERT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM DE TRANSFERT
(JA) 転写フィルム及び転写フィルムの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Photocatalyst microparticles are provided inside a photocatalyst layer in contact with a base film, UV rays are irradiated onto the photocatalyst microparticles, and voids are formed in the boundary region between a protective layer and the photocatalyst layer.
(FR)Des microparticules de photocatalyseur sont disposées à l'intérieur d'une couche de photocatalyseur en contact avec un film de base, des rayons UV sont irradiés sur les microparticules de photocalyseur, et des vides sont formés dans la région limite entre une couche de protection et la couche de photocatalyseur.
(JA)ベースフィルムと接する光触媒層内に光触媒微粒子が設けられ、光触媒微粒子に紫外線が照射されて、保護層と光触媒層との界面領域に空隙が形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)