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1. (WO2016139187) SYSTÈME D’IRRADIATION DESTINÉ À UN DISPOSITIF DE PRODUCTION GÉNÉRATIVE

Pub. No.:    WO/2016/139187    International Application No.:    PCT/EP2016/054269
Publication Date: Sat Sep 10 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Mar 02 00:59:59 CET 2016
IPC: B22F 3/105
B29C 67/00
H01S 3/23
Applicants: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
Inventors: BAUER, Johannes
RENZ, Bernd Hermann
WUEST, Frank Peter
Title: SYSTÈME D’IRRADIATION DESTINÉ À UN DISPOSITIF DE PRODUCTION GÉNÉRATIVE
Abstract:
L’invention concerne un système d’irradiation (3), destiné à un dispositif (1) de production générative à laser, qui comprend une première source de faisceau (13) d’un premier faisceau laser (13A) et une seconde source de faisceau (15) d'un second faisceau laser (15A), le second faisceau laser (15A) ayant un facteur de qualité supérieure à celle du premier faisceau laser (13A). En outre, le système d'irradiation (3) comprend une optique de balayage commune (21) destinée à focaliser le premier faisceau laser (13A) et le second faisceau laser (13B) à l'intérieur d'une chambre de production (5) du dispositif (1) et un système de guidage de faisceau comportant un premier trajet de faisceau (13a') destiné à guider le premier faisceau laser (13A) de la première source de faisceau (13) à l'optique de balayage (21) et un second trajet de faisceau (15A') destiné à guider le second faisceau laser (15A) de la seconde source de faisceau (15) à l'optique de balayage (21), le système de guidage de faisceau comprenant un combinateur de faisceaux (19) destiné à superposer les trajets de faisceau du premier chemin optique (13A') et du second trajet de faisceau (15A').