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1. (WO2016139044) FABRICATION DE COUCHES DE POLYURÉTHANE POREUSES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/139044    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/052967
Date de publication : 09.09.2016 Date de dépôt international : 12.02.2016
CIB :
C08G 77/46 (2006.01), C09D 175/04 (2006.01), D06N 3/14 (2006.01)
Déposants : EVONIK DEGUSSA GMBH [DE/DE]; Rellinghauser Straße 1-11 45128 Essen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
LÜTHGE, Thomas [DE/DE]; (DE) (US only).
GLOS, Martin [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventeurs : LÜTHGE, Thomas; (DE).
GLOS, Martin; (DE)
Données relatives à la priorité :
15157322.7 03.03.2015 EP
Titre (DE) HERSTELLUNG PORÖSER POLYURETHANSCHICHTEN
(EN) PRODUCTION OF POROUS POLYURETHANE LAYERS
(FR) FABRICATION DE COUCHES DE POLYURÉTHANE POREUSES
Abrégé : front page image
(DE)Es wird die Verwendung bestimmter siliziumhaltiger Verbindungen bei der Herstellung von porösen Polyurethanschichten zur Verbesserung der Verlaufseigenschaften der zur Polyurethanschicht reagierenden Reaktionsmasse und/oder zur Zelloptimierung des resultierenden Polyurethanschicht, vorzugsweise zur Homogenisierung der Zellstruktur über die gesamte resultierende Polyurethanschicht, insbesondere im Rahmen der Kunstleder- oder Schaumfolienherstellung beschrieben. Die siliziumhaltigen Verbindungen genügen der Formel (1).
(EN)Described is the use of certain silicon-containing compounds in the production of porous polyurethane layers in order to improve the self-leveling properties of the reaction mass being converted into the polyurethane layer and/or in order to optimize the cells of the resulting polyurethane layer, preferably homogenize the cell structure across the entire resulting polyurethane layer, in particular during the production of synthetic leather or expanded sheets. The silicon-containing compounds satisfy formula (1).
(FR)La présente invention concerne l'utilisation de certains composés contenant du silicium pour la fabrication de couches de polyuréthane poreuses afin d'améliorer les propriétés d'écoulement de la masse réactionnelle réagissant pour former la couche de polyuréthane et/ou d'optimiser les cellules de la couche de polyuréthane résultante, de préférence afin d'homogénéiser la structure cellulaire sur l'intégralité de la couche de polyuréthane résultante, en particulier dans le cadre de la fabrication de similicuir ou de feuilles de mousse. Lesdits composés contenant du silicium répondent à la formule (1).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)