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1. (WO2016138708) ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/138708    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/083729
Date de publication : 09.09.2016 Date de dépôt international : 10.07.2015
CIB :
H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01), H01L 51/56 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Road, Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : WANG, Dongfang; (CN).
YAN, Liangchen; (CN).
SHANGGUAN, Ronggang; (CN)
Mandataire : CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD.; 22/F, Great Eagle Centre 23 Harbour Road, Wanchai Hong Kong (CN)
Données relatives à la priorité :
201510094993.8 03.03.2015 CN
Titre (EN) ELECTRODE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 电极及其制作方法、阵列基板及其制作方法
Abrégé : front page image
(EN)An electrode and manufacturing method thereof, and array substrate and manufacturing method thereof. The electrode manufacturing method comprises: forming a ZnON material layer on a metal electrode layer (10); etching the ZnON material layer to form a microlens structure layer (11); and forming a transparent electrode layer (12) on the microlens structure layer (11). Since the ZnON material is used as the material for forming the microlens structure layer, when the microlens structure is formed by etching, a weaker alkaline or acid solution can be used to prevent the metal electrode layer from being corroded.
(FR)La présente invention concerne une électrode et son procédé de fabrication, et un substrat de réseau et son procédé de fabrication. Le procédé de fabrication d'électrode consiste à : former une couche de matériau à base de ZnON sur une couche d'électrode métallique (10) ; graver la couche de matériau à base de ZnON en vue de former une couche de structure de microlentilles (11) ; et former une couche d'électrode transparente (12) sur la couche de structure de microlentilles (11). Étant donné que le matériau à base de ZnON est utilisé en tant que matériau servant à la formation de la couche de structure de microlentilles, lorsque la structure de microlentilles est formée par gravure, une solution alcaline ou acide plus faible peut être utilisée pour empêcher la corrosion de la couche d'électrode métallique.
(ZH)一种电极及其制作方法、阵列基板及其制作方法。电极的制作方法包括:在金属电极层(10)上形成ZnON材料层;对所形成的ZnON材料层进行刻蚀形成微透镜结构层(11);在该微透镜结构层(11)上形成透明电极层(12)。由于采用ZnON材料作为用于形成微透镜结构层的材料,能够在通过刻蚀的方式形成微透镜结构时,使用碱性或者酸性较弱的溶液,从而能够阻止金属电极层被腐蚀。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)