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1. (WO2016138354) ALIGNEMENT D'OUTIL DE FORMATION DE MOTIFS À FAISCEAUX MULTIPLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/138354 N° de la demande internationale : PCT/US2016/019727
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 26.02.2016
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION[US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs : AMIR, Nuriel; IL
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; US
Données relatives à la priorité :
14/861,50222.09.2015US
62/126,15227.02.2015US
Titre (EN) ALIGNMENT OF MULTI-BEAM PATTERNING TOOL
(FR) ALIGNEMENT D'OUTIL DE FORMATION DE MOTIFS À FAISCEAUX MULTIPLES
Abrégé : front page image
(EN) Alignment of multi-beam pattern tools includes generating a test pattern having multiple features with a multi-beam patterning tool, acquiring an image standard associated with a test pattern standard, acquiring an image of a portion of the test pattern, comparing the portion of the image of the test pattern to the image standard to identify one or more irregularities between the portion of the image of the test pattern and the image standard, and adjusting one or more beams of the multi-beam patterning tool based on the one or more identified irregularities between the portion of the image of the test pattern and the image standard.
(FR) La présente invention concerne un alignement d'outils de formation de motifs à faisceaux multiples qui comprend la génération d'un motif d'essai comportant de multiples éléments à l'aide d'un outil de formation de motifs à faisceaux multiples, l'acquisition d'une norme d'image associé à une norme de motif d'essai, l'acquisition d'une image d'une partie du motif d'essai, la comparaison de la partie de l'image du motif d'essai à la norme d'image pour identifier une ou plusieurs irrégularités entre la partie de l'image du motif d'essai et la norme d'image, et le réglage d'un ou de plusieurs faisceaux de l'outil de formation de motifs à faisceaux multiples sur la base de l'une ou des plusieurs irrégularités identifiées entre la partie de l'image du motif d'essai et la norme d'image.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)