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1. (WO2016138218) PROCÉDÉS ET APPAREIL PERMETTANT D'UTILISER DES ALKYLAMINES POUR L'ÉLIMINATION SÉLECTIVE DE NITRURE MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/138218    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/019484
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 25.02.2016
CIB :
H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : SHARMA, Vijay Bhan; (IN).
ARNEPALLI, Ranga Rao; (IN).
GORADIA, Prerna; (IN).
VISSER, Robert Jan; (US)
Mandataire : TABOADA, Alan; (US)
Données relatives à la priorité :
551/DEL/2015 25.02.2015 IN
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR USING ALKYL AMINES FOR THE SELECTIVE REMOVAL OF METAL NITRIDE
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL PERMETTANT D'UTILISER DES ALKYLAMINES POUR L'ÉLIMINATION SÉLECTIVE DE NITRURE MÉTALLIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Improved methods and apparatus for removing a metal nitride selectively with respect to exposed or underlying dielectric or metal layers are provided herein. In some embodiments, a method of etching a metal nitride layer atop a substrate, includes: (a) oxidizing a metal nitride layer to form a metal oxynitride layer (MN1-xOx) at a surface of the metal nitride layer, wherein M is one of titanium or tantalum and x is an integer from 0.05 to 0.95; and (b) exposing the metal oxynitride layer (MN1-xOx) to a process gas, wherein the metal oxynitride layer (MN1-xOx) reacts with the process gas to form a volatile compound which desorbs from the surface of the metal nitride layer.
(FR)La présente invention concerne des procédés et un appareil améliorés pour l'élimination sélective d'un nitrure métallique par rapport à des couches métalliques ou diélectriques exposées ou sous-jacentes. Dans certains modes de réalisation, un procédé d'attaque d'une couche de nitrure métallique sur un substrat comprend les étapes consistant à : (a) oxyder une couche de nitrure métallique pour former une couche d'oxynitrure métallique (MN1-xOx) à la surface de la couche de nitrure métallique, où M est un métal tel que le titane ou le tantale et x est un nombre entier allant de 0,05 à 0,95 et (b) exposer la couche d'oxynitrure métallique (MN1-xOx) à un gaz de traitement, la couche d'oxynitrure métallique (MN1-xOx) réagissant avec le gaz de traitement pour former un composé volatil qui se désorbe de la surface de la couche de nitrure métallique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)