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1. (WO2016137876) COMPOSITIONS À RÉSISTANCE AU CHEMINEMENT ÉLECTRIQUE, ARTICLES FORMÉS À PARTIR DE CES COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/137876    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/018899
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 22.02.2016
CIB :
C08L 67/02 (2006.01), C08L 77/06 (2006.01), C08L 79/08 (2006.01)
Déposants : SABIC GLOBAL TECHNOLOGIES B.V. [NL/NL]; Plasticslaan 1 4612 PX Bergen op Zoom (NL).
SHETH, Kapil Chandrakant [US/US]; (US) (BZ only)
Inventeurs : SHETH, Kapil Chandrakant; (US).
RAMALINGAM, Hariharan; (IN).
MEDIRATTA, Gaurav; (IN)
Mandataire : WU, Wanli; (US)
Données relatives à la priorité :
62/119,492 23.02.2015 US
Titre (EN) ELECTRICAL TRACKING RESISTANCE COMPOSITIONS, ARTICLES FORMED THEREFROM, AND METHODS OF MANUFACTURE THEREOF
(FR) COMPOSITIONS À RÉSISTANCE AU CHEMINEMENT ÉLECTRIQUE, ARTICLES FORMÉS À PARTIR DE CES COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
Abrégé : front page image
(EN)A composition comprises, based on the total weight of the composition, 45 wt% to 75 wt% of a polyetherimide; and 20 wt% to 45 wt% of talc; and 5 wt% to 15 wt% of a fluorinated polymer; wherein the composition has a number of drops to tracking at 250 volts of greater than or equal to 50 drops according to ASTM D-3638-85.
(FR)L'invention concerne une composition qui comprend, sur la base du poids total de la composition, de 45 % en poids à 75 % en poids d'un polyétherimide; de 20 % en poids à 45 % en poids de talc; et de 5 % en poids à 15 % en poids d'un polymère fluoré; la composition présentant un nombre de gouttes nécessaires pour provoquer la défaillance par cheminement à 250 volts supérieur ou égal à 50 gouttes selon la norme ASTM D-3638-85.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)