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1. (WO2016136974) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SYSTÈME DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF

Pub. No.:    WO/2016/136974    International Application No.:    PCT/JP2016/055905
Publication Date: Fri Sep 02 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Sat Feb 27 00:59:59 CET 2016
IPC: G03F 7/20
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: SUZUKI, Tomonari
鈴木 智也
NARA, Kei
奈良 圭
KATO, Masaki
加藤 正紀
WATANABE, Tomoyuki
渡辺 智行
KITO, Yoshiaki
鬼頭 義昭
HORI, Masakazu
堀 正和
HAYASHIDA, Yosuke
林田 洋祐
KOMIYAMA, Hiroki
小宮山 弘樹
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SYSTÈME DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
 Le dispositif selon l'invention comporte: un tambour rotatif (DR) pour un déplacement à une vitesse déterminée et selon une direction de déplacement qui croise la direction de largeur d'un substrat (P); un dispositif (11) de formation de motifs, lequel balaie un substrat (P) en suivant des lignes de formation de motifs avec un faisceau de formation de motifs projeté sur ce substrat (P), lequel possède plusieurs modules (UW1 à UW5) de formation de motifs pour former des motifs prédéfinis sur le substrat (P), et dans lequel les motifs destinés à être formés sur le substrat (P) au moyen des divers modules (UW1 à UW5) de formation de motifs de façon à être continus dans la largeur, sont constitués de lignes de formation de motifs adjacentes les unes aux autres en largeur et disposées selon des intervalles déterminés dans le sens de déplacement du tambour; un mécanisme rotatif (24) qui ajuste l'inclinaison mutuelle des lignes de formation de motifs en fonction de la largeur du substrat (P); et un mécanisme rotatif de détection de position qui détecte la vitesse de déplacement du substrat (P). Sur la base de la vitesse de déplacement détectée à l'aide du mécanisme rotatif de détection de position, l'inclinaison mutuelle des lignes de formation de motifs est ajustée par le mécanisme rotatif (24).