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1. (WO2016136935) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM ÉTANCHE AU GAZ ET FILM ÉTANCHE AU GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/136935    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/055783
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 26.02.2016
CIB :
B32B 38/18 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP)
Inventeurs : TAKASHIMA Nao; (JP)
Mandataire : SUZUKI Shirou; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-036374 26.02.2015 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING GAS BARRIER FILM, AND GAS BARRIER FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM ÉTANCHE AU GAZ ET FILM ÉTANCHE AU GAZ
(JA) ガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア性フィルム
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing a gas barrier film, wherein: a gas barrier laminate is formed by laminating an atomic layer deposited film on the surface of a plastic base by an atomic layer deposition method; an overcoat laminate is formed by removably laminating a curable resin layer on a supporting body; the gas barrier laminate and the overcoat laminate are laminated on each other such that the atomic layer deposited film and the curable resin layer face each other, and the curable resin layer is transferred onto the atomic layer deposited film; and the curable resin layer is cured by means of application of heat or an active energy ray, and the curable resin layer is separated from the supporting body.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un film étanche au gaz selon lequel : un stratifié étanche au gaz est formé en stratifiant un film déposé en couche atomique sur la surface d'une base en matière plastique par un procédé de dépôt de couche atomique ; un stratifié de finition est formé en stratifiant de manière amovible une couche de résine durcissable sur un corps de support ; le stratifié étanche au gaz et le stratifié de finition sont stratifiés l'un sur l'autre de telle sorte que le film déposé en couche atomique et la couche de résine durcissable se font face, et la couche de résine durcissable est transférée sur le film déposé en couche atomique ; et la couche de résine durcissable est durcie par d'application de chaleur ou d'un rayonnement d'énergie active, et la couche de résine durcissable est séparée du corps de support.
(JA) ガスバリア性フィルムの製造方法は、原子層堆積法によりプラスチック基材の表面に原子層堆積膜を積層してガスバリア性積層体を形成し、支持体上に硬化性樹脂層を剥離可能に積層してオーバーコート積層体を形成し、前記ガスバリア性積層体と前記オーバーコート積層体とを、前記原子層堆積膜と前記硬化性樹脂層が対向する状態で積層して、前記硬化性樹脂層を前記原子層堆積膜上に転写し、熱または活性エネルギー線の印加により、前記硬化性樹脂層を硬化し、前記硬化性樹脂層を前記支持体から剥離する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)