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1. (WO2016136817) COMPOSITION CONTENANT DU FLUOR, SUBSTRAT POUR LA FORMATION DE MOTIFS, AGENT DE COUPLAGE PHOTODÉGRADABLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR TRANSISTOR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/136817 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/055456
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 24.02.2016
CIB :
G03F 7/075 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,B05D 3/10 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs : KAWAKAMI Yusuke; JP
YAMAGUCHI Kazuo; JP
Mandataire : SHIGA Masatake; JP
Données relatives à la priorité :
2015-03542425.02.2015JP
2016-02724116.02.2016JP
Titre (EN) FLUORINE-CONTAINING COMPOSITION, SUBSTRATE FOR PATTERNING, PHOTO-DEGRADABLE COUPLING AGENT, METHOD FOR PATTERNING, AND MANUFACTURING METHOD FOR TRANSISTOR
(FR) COMPOSITION CONTENANT DU FLUOR, SUBSTRAT POUR LA FORMATION DE MOTIFS, AGENT DE COUPLAGE PHOTODÉGRADABLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR TRANSISTOR
(JA) 含フッ素組成物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法
Abrégé :
(EN) A fluorine-containing composition according to the present invention comprises a fluorine-containing compound represented by general formula (1) and a fluorine-based solvent.
(FR) L'invention concerne une composition contenant du fluor qui comprend un composé contenant du fluor représenté par la formule générale (1) et un solvant à base de fluor.
(JA)  一般式(1)で表される含フッ素化合物と、フッ素系溶剤と、を含有する含フッ素組成物である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)