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1. (WO2016136722) DISPOSITIF DE PROJECTION DE MATÉRIAU D'ABSORPTION DE LUMIÈRE, PROCÉDÉ DE PROJECTION DE MATÉRIAU D'ABSORPTION DE LUMIÈRE, ET APPLICATIONS L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/136722    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/055208
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 23.02.2016
CIB :
B41J 2/04 (2006.01), B29C 67/00 (2006.01), B33Y 10/00 (2015.01), B33Y 30/00 (2015.01), B41J 2/14 (2006.01)
Déposants : RICOH COMPANY, LTD. [JP/JP]; 3-6, Nakamagome 1-chome, Ohta-ku, Tokyo 1438555 (JP) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
SUZUKI, Kazumi [JP/JP]; (JP) (US only).
YOSHINO, Masaki [JP/JP]; (JP) (US only).
OMATSU, Takashige [JP/JP]; (JP) (US only)
Inventeurs : SUZUKI, Kazumi; (JP).
YOSHINO, Masaki; (JP).
OMATSU, Takashige; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-034707 25.02.2015 JP
2016-024079 10.02.2016 JP
Titre (EN) LIGHT-ABSORBING MATERIAL JETTING DEVICE, LIGHT-ABSORBING MATERIAL JETTING METHOD, AND APPLICATIONS USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE PROJECTION DE MATÉRIAU D'ABSORPTION DE LUMIÈRE, PROCÉDÉ DE PROJECTION DE MATÉRIAU D'ABSORPTION DE LUMIÈRE, ET APPLICATIONS L'UTILISANT
(JA) 光吸収材飛翔装置及び光吸収材飛翔方法、並びに、それを用いた応用
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a light-absorbing material jetting device (300) comprising a light-absorbing material (20) that absorbs light and a light-absorbing material jetting means (1) for irradiating an optical vortex laser beam (12) corresponding to the light absorption wavelength of the light-absorbing material (20) on the light absorbing material (20) to jet the light-absorbing material (20) in the direction in which the optical vortex laser beam (12) is irradiated and bond the material on a bonding object (30) using the energy of the optical vortex laser beam (12).
(FR)L'invention concerne un dispositif de projection de matériau d'absorption de lumière (300) comprenant un matériau d'absorption de lumière (20) qui absorbe la lumière et un moyen de projection de matériau d'absorption de lumière (1) pour irradier un faisceau laser de vortex optique (12) correspondant à la longueur d'onde d'absorption de lumière du matériau d'absorption de lumière (20) sur le matériau d'absorption de lumière (20) pour projeter le matériau d'absorption de lumière (20) dans la direction dans laquelle le faisceau laser de vortex optique (12) est irradié, et lier le matériau sur un objet de liaison (30) à l'aide de l'énergie du faisceau laser de vortex optique (12).
(JA) 光を吸収する光吸収材(20)と、前記光吸収材(20)の光吸収波長に対応する光渦レーザビーム(12)を前記光吸収材(20)に照射し、前記光渦レーザビーム(12)のエネルギーにより前記光吸収材(20)を前記光渦レーザビーム(12)の照射方向に飛翔させ、被付着物(30)に付着させる光吸収材飛翔手段(1)と、を有する光吸収材飛翔装置(300)を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)