WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016136650) DISPOSITIF D’ÉLIMINATION DE PARTICULES FINES DANS L'EAU ET SYSTÈME DE PRODUCTION/ALIMENTATION EN EAU ULTRA-PURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/136650 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/054999
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 22.02.2016
CIB :
C02F 1/44 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,B01D 61/58 (2006.01) ,B01D 71/72 (2006.01) ,B01J 41/04 (2006.01) ,B01J 47/12 (2006.01) ,C08J 5/22 (2006.01) ,C08J 9/36 (2006.01)
Déposants : KURITA WATER INDUSTRIES LTD.[JP/JP]; 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101, JP
Inventeurs : KAWAKATSU, Takahiro; JP
IINO, Hideaki; JP
FUKUI, Takeo; JP
KANEDA, Masayuki; JP
SATO, Daisuke; JP
Mandataire : SHIGENO, Tsuyoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2015-03300223.02.2015JP
Titre (EN) REMOVAL DEVICE OF FINE PARTICLES IN WATER AND ULTRAPURE WATER PRODUCTION/SUPPLY SYSTEM
(FR) DISPOSITIF D’ÉLIMINATION DE PARTICULES FINES DANS L'EAU ET SYSTÈME DE PRODUCTION/ALIMENTATION EN EAU ULTRA-PURE
(JA) 水中微粒子の除去装置及び超純水製造・供給システム
Abrégé : front page image
(EN) In a subsystem and water supply path before a use point in an ultrapure water production/supply process, fine particles having a particle diameter of at most 50 nm-in particular, extremely fine particles having a particle diameter of at most 10 nm-are highly removed from the water. A removal device of fine particles in water according to the present invention comprises a membrane filtration means comprising a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane having a weak cationic functional group. As the microfiltration membrane or the ultrafiltration membrane having a weak cationic functional group, it is preferred to have a polyketone film with the weak cationic functional group. Negatively-charged particles in water are adsorbed by the weak cationic functional group and can thus be removed.
(FR) Dans un système secondaire et un chemin d'alimentation en eau avant un point d'utilisation dans un procédé de production/alimentation en eau ultra-pure, des particules fines ayant un diamètre de particule de 50 nm au maximum en particulier, des particules extrêmement fines ayant un diamètre de particule de 10 nm au maximum sont fortement éliminées de l'eau. Un dispositif d'élimination de particules fines dans l'eau selon la présente invention comprend un moyen de filtration de membrane comprenant une membrane de microfiltration ou une membrane d'ultrafiltration ayant un groupe fonctionnel cationique faible. Comme la membrane de microfiltration ou la membrane d'ultrafiltration ayant un groupe fonctionnel cationique faible, il est préférable d'avoir un film de polycétone ayant le groupe fonctionnel cationique faible. Des particules chargées négativement dans l'eau sont adsorbées par le groupe fonctionnel cationique faible et peuvent ainsi être éliminées.
(JA)  超純水製造・供給プロセスにおけるユースポイント前のサブシステムや給水系路において、水中の粒子径50nm以下特に10nm以下の極微小の微粒子を高度に除去する。弱カチオン性官能基を有する精密濾過膜もしくは限外濾過膜を有する膜濾過手段を有する水中微粒子の除去装置。弱カチオン性官能基を有する精密濾過膜もしくは限外濾過膜としては、ポリケトン膜に弱カチオン性官能基を導入したものが好ましい。負に帯電した水中の微粒子を弱カチオン性官能基により吸着して除去することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)