WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016136595) UNITÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/136595    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/054746
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 18.02.2016
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventeurs : KOBAYASHI, Yuhki; (--).
KAWATO, Shinichi; (--)
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-035329 25.02.2015 JP
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION UNIT, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND VAPOR DEPOSITION METHOD
(FR) UNITÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着ユニット、蒸着装置、および蒸着方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a vapor deposition unit (1) equipped with a vapor deposition mask (10), a restricting plate unit (20) having restricting plates (22), and a vapor deposition source (30). The vapor deposition source (30), seen in plan view, has: a plurality of first openings (31) which eject vapor deposition particles and which are each provided at a location facing a restricting plate opening (23) between the restricting plates (22); and at least one second opening (32) for pressure relief, which is provided at a location not facing the restricting plate opening (23).
(FR)L'invention concerne une unité de dépôt en phase vapeur (1) pourvue d'un masque de dépôt en phase vapeur (10), d'une unité (20) de plaques de restriction ayant des plaques de restriction (22) et d'une source de dépôt en phase vapeur (30). La source de dépôt en phase vapeur (30), vue dans une vue en plan, a : une pluralité de premières ouvertures (31) qui éjectent des particules pour le dépôt en phase vapeur et qui sont chacune ménagées en un emplacement en regard d'une ouverture (23) entre plaques de restriction entre les plaques de restriction (22); et au moins une seconde ouverture (32) pour la décompression, qui est ménagée au niveau d'un emplacement qui n'est pas en regard de l'ouverture (23) entre plaques de restriction.
(JA) 蒸着ユニット(1)は、蒸着マスク(10)と、制限板(22)を有する制限板ユニット(20)と、蒸着源(30)と、を備えている。蒸着源(30)は、平面視で、制限板(22)間の制限板開口(23)間にそれぞれ設けられた蒸着粒子射出用の複数の第1開口部(31)と、制限板開口(23)に対向しない位置に設けられた少なくとも1つの圧力抜き用の第2開口部(32)とを有している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)