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1. (WO2016136476) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/136476    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/053983
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 10.02.2016
CIB :
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, NISHIAZABU 2-chome, MINATO-KU, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : HIRANO, Shuji; (JP).
TAKADA, Akira; (JP)
Mandataire : KURATA, Masatoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-038897 27.02.2015 JP
2015-050898 13.03.2015 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a pattern forming method which comprises: a step for forming a film using an active light sensitive or radiation sensitive resin composition; a step for exposing the film to light; and a step for forming a negative pattern by developing the film after light exposure with use of a developer liquid that contains an organic solvent. The active light sensitive or radiation sensitive resin composition contains a resin (Ab) that comprises, as a repeating unit that is decomposed by the action of an acid and generates a polar group, at least a repeating unit represented by general formula (Ab1).
(FR)L'invention concerne un procédé de formation de motifs qui comprend : une étape consistant à former un film à l'aide d'une composition de résine sensible à une lumière active ou sensible à un rayonnement ; une étape consistant à exposer le film à de la lumière ; et une étape consistant à former un motif négatif en développant le film après exposition à la lumière en utilisant un liquide révélateur qui contient un solvant organique. La composition de résine sensible à une lumière active ou sensible au rayonnement contient une résine (Ab) qui comprend, en tant qu'unité de répétition qui est décomposé par l'action d'un acide et génère un groupe polaire, au moins une unité de répétition représentée par la formule générale (Ab1).
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、上記膜を露光する工程、及び、露光後の上記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型のパターンを形成する工程を含むパターン形成方法が提供される。上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位として、少なくとも、下記一般式(Ab1)により表される繰り返し単位を含む樹脂(Ab)を含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)