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1. (WO2016136141) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE TRAITEMENT, DE COMPOSANT OPTIQUE, DE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ OU DE COMPOSANT ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2016/136141    International Application No.:    PCT/JP2016/000401
Publication Date: Fri Sep 02 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Thu Jan 28 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/027
B29C 59/02
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA
Inventors: ITO, Toshiki
YONEZAWA, Shiori
CHIBA, Keiko
IIMURA, Akiko
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE TRAITEMENT, DE COMPOSANT OPTIQUE, DE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ OU DE COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
Abstract:
Selon la présente invention, un motif est formé par l'agencement d'une composition photo-durcissable sur un substrat ; la mise en contact d'un moule portant un motif concavo-convexe avec la composition ; l'exposition de la composition à de la lumière pour former un film durci ; le démoulage du film durci ; la formation d'une couche d'inversion sur le film durci portant un motif concavo-convexe transféré à partir du moule ; l'élimination partielle de la couche d'inversion pour faire apparaître les parties convexes du motif de manière que la couche d'inversion reste dans les parties concaves du motif formé sur le film durci ; la gravure de la couche de composition photo-durcissable en utilisant la couche d'inversion restant dans les parties concaves comme masque pour former un motif d'inversion, le moule étant mis en contact avec la composition photo-durcissable dans une atmosphère d'un gaz soluble possédant de la solubilité dans la composition et le gaz soluble présentant une solubilité à saturation de 38 % en volume ou plus.