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1. (WO2016136121) UNITÉ DE CATHODE ROTATIVE POUR APPAREILS DE PULVÉRISATION PAR MAGNÉTRON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/136121    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/000092
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 08.01.2016
CIB :
C23C 14/35 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : SAITOU, Shuuji; (JP)
Mandataire : SEIGA PATENT AND TRADEMARK CORPORATION; 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-034206 24.02.2015 JP
Titre (EN) ROTARY CATHODE UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUSES
(FR) UNITÉ DE CATHODE ROTATIVE POUR APPAREILS DE PULVÉRISATION PAR MAGNÉTRON
(JA) マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a rotary cathode unit RC for magnetron sputtering apparatuses which is configured so that a target Tg is eroded uniformly along the entire length in the direction of a busbar of the target. A magnet unit Mu is disposed inside the target, which is cylindrical, and generates a magnetic field that leaks from the surface of the target so that a line passing through a location where the vertical component of the magnetic field is zero extends along the busbar of the target and forms a closed race track shape. The magnet unit Mu is configured from the following separate parts: first parts 5a located at both ends in the busbar direction of the target and forming corner portions of the race track; second parts 5b located inward from the first parts in the busbar direction of the target and disposed adjacent to the first parts; and a third part 5c located between the second parts. Transport means 6 for independently moving the first to third parts toward and away from the surface of the target are placed in the internal space of the target.
(FR)L'invention concerne une unité de cathode rotative RC pour appareils de pulvérisation par magnétron qui est conçue de telle sorte qu'une cible Tg est érodée uniformément sur toute sa longueur dans la direction d'une barre omnibus de la cible. Une unité d'aimant Mu est disposée à l'intérieur de la cible, qui est cylindrique, et génère un champ magnétique qui fuit à partir de la surface de la cible de telle sorte qu'une ligne passant par un emplacement dans lequel la composante verticale du champ magnétique est égale à zéro s'étend le long de la barre omnibus de la cible et se présente sous la forme d'un anneau de vitesse. L'unité d'aimant Mu est constituée des parties séparées suivantes : des premières parties (5a) situées aux deux extrémités dans la direction de la barre omnibus de la cible et formant les parties des coins de l'anneau de vitesse ; des deuxièmes parties (5b) situées vers l'intérieur à partir des premières parties dans la direction de la barre omnibus de la cible et disposées à côté des premières parties ; et une troisième partie (5c) située entre les deuxièmes parties. Des moyens de transport (6) permettant de déplacer indépendamment les premières à troisième parties en direction et à distance de la surface de la cible sont placés dans l'espace interne de la cible.
(JA) ターゲットTgの母線方向全長に亘って均等にターゲットが侵食されるようにしたマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットRCを提供する。 円筒状のターゲット内に設けられ、磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がターゲットの母線に沿ってのびてレーストラック状に閉じるようにターゲット表面から漏洩する磁場を発生させる磁石ユニットMuは、ターゲットの母線方向両端でレーストラックのコーナー部を夫々形成する第1部分5aと、第1部分からターゲットの母線方向内方で第1部分に夫々隣接配置される第2部分5bと、第2部分相互の間に位置する第3部分5cとに分けて構成する。第1部分~第3部分を独立してターゲット表面に対し近接離間可能に進退させる移動手段6をターゲットの内部空間に収納する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)