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1. (WO2016135159) COLONNE ET PROCÉDÉ POUR LA DISMUTATION DE CHLOROSILANES EN MONOSILANE ET EN TÉTRACHLOROSILANE AINSI QU'INSTALLATION POUR L'OBTENTION DE MONOSILANE

Pub. No.:    WO/2016/135159    International Application No.:    PCT/EP2016/053800
Publication Date: Fri Sep 02 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Feb 24 00:59:59 CET 2016
IPC: B01D 3/00
B01D 3/20
C01B 33/04
C01B 33/107
Applicants: SCHMID SILICON TECHNOLOGY GMBH
Inventors: SCHMID, Christian
HAHN, Jochem
FUHRMANN, Christian Andreas
Title: COLONNE ET PROCÉDÉ POUR LA DISMUTATION DE CHLOROSILANES EN MONOSILANE ET EN TÉTRACHLOROSILANE AINSI QU'INSTALLATION POUR L'OBTENTION DE MONOSILANE
Abstract:
L'invention concerne une colonne et un procédé pour la dismutation de chlorosilanes en monosilane et en tétrachlorosilane avec une séparation par rectification simultanée des silanes ainsi obtenus. L'invention concerne en outre une installation munie d'une telle colonne. La colonne comprend une tête de colonne, un fond de colonne et une enveloppe tubulaire de colonne disposée entre les deux. Au moins deux zones de réaction superposées et au moins deux zones de séparation servant à la séparation par rectification se trouvent dans un agencement par alternance dans l'enveloppe de colonne et le long de l'axe de la colonne. Un lit catalytique est agencé dans chaque zone de réaction, dans lequel les chlorosilanes sont dismutés en silanes à bas point d'ébullition, qui forment un flux de gaz ascendant dans la colonne, ainsi qu'en silanes présentant un point d'ébullition (comparativement) plus élevé, qui forment (après condensation) un flux de liquide dirigé vers le bas dans la colonne. Les zones de séparation et les zones de réaction sont conçues de manière telle que le flux de gaz et le flux liquide se rencontrent dans les zones de séparation, alors que dans les zones de réaction, le flux de liquide est guidé à travers les lits catalytiques et le flux de gaz passe les lits catalytiques de manière séparée dans l'espace du flux de liquide.