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1. (WO2016134654) DISPOSITIF DE TRANSMISSION À MASQUE ET PROCÉDÉ DE TRANSMISSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/134654 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/074407
Date de publication : 01.09.2016 Date de dépôt international : 24.02.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventeurs :
姜晓玉 JIANG, Xiaoyu; CN
王长刚 WANG, Changgang; CN
Mandataire :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 长宁区天山西路789号1幢341室 Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
Données relatives à la priorité :
201510087602.X26.02.2015CN
Titre (EN) MASK TRANSMISSION DEVICE AND TRANSMISSION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRANSMISSION À MASQUE ET PROCÉDÉ DE TRANSMISSION
(ZH) 一种掩模版传输装置及传输方法
Abrégé :
(EN) A mask transmission device, comprising a mask, a mask platform (4) and a manipulator (2), wherein the manipulator (2) is used for supporting and transmitting the mask and transferring same to the mask platform (4), and also comprising a first group of marks (52) and a second group of marks (53) which are located on the mask; a pre-alignment component (3) located on one side of the mask platform (4) and used, during the mask transferring process, for detecting the first group of marks (52) to conduct pre-alignment for the first time and detecting the second group of marks (53) to conduct pre-alignment for the second time; and a control unit used for adjusting the relative position of the mask and the mask platform (4) according to the result of pre-alignment for the first time, so as to prevent the mask from colliding with the mask platform (4), and adjusting the relative position of the mask and the mask platform (4) according to the result of pre-alignment for the second time, so as to enable the relative position of the mask and the mask platform (4) to be within a setting range. Also disclosed is a mask transmission method.
(FR) L'invention concerne un dispositif de transmission à masque, comprenant un masque, une plate-forme de masque (4) et un manipulateur (2), le manipulateur (2) étant utilisé pour porter et transmettre le masque et le transférer à la plate-forme de masque (4), et comprenant également un premier groupe de repères (52) et un second groupe de repères (53) qui sont situés sur le masque; un élément de pré-alignement (3) situé sur un côté de la plate-forme de masque (4) et utilisé, pendant le processus de transfert de masque, pour détecter le premier groupe de repères (52) pour réaliser un pré-alignement pour la première fois et détecter le second groupe de repères (53) pour réaliser un pré-alignement pour la seconde fois; et une unité de commande utilisée pour ajuster la position relative du masque et de la plate-forme de masque (4) selon le résultat du pré-alignement pour la première fois, de manière à empêcher le masque d'entrer en collision avec la plate-forme de masque (4), et pour ajuster la position relative du masque et de la plate-forme de masque (4) selon le résultat du pré-alignement pour la seconde fois, de manière à permettre à la position relative du masque et de la plate-forme de masque (4) d'être à l'intérieur d'une plage de réglage. L'invention concerne également un procédé de transmission à masque.
(ZH) 一种掩模版传输装置,包括一掩模版、一掩模台(4)以及一机械手(2),机械手(2)用于支撑和传输掩模版并将其交接到掩模台(4)上,还包括:第一组标记(52)和第二组标记(53),位于掩模版上;一预对准部件(3),位于掩模台(4)的一侧,用于在掩模版交接过程中探测第一组标记(52)以进行第一次预对准,以及探测第二组标记(53)以进行第二次预对准;一控制单元,用于根据第一次预对准结果调整掩模版和掩模台(4)的相对位置,避免掩模版和掩模台(4)相撞,以及根据第二次预对准结果调整掩模版和掩模台(4)的相对位置,使得掩模版和掩模台(4)的相对位置在设定范围之内。还公开了一种掩模版传输方法。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)