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1. (WO2016122945) DISPOSITIF CMOS-MEMS QUI MINIMISE LE DÉGAZAGE ET PROCÉDÉS DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2016/122945    International Application No.:    PCT/US2016/014143
Publication Date: Fri Aug 05 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Thu Jan 21 00:59:59 CET 2016
IPC: B81B 7/00
Applicants: INVENSENSE, INC.
Inventors: SMEYS, Peter
SHIN, Jong II
SHIN, Jongwoo
Title: DISPOSITIF CMOS-MEMS QUI MINIMISE LE DÉGAZAGE ET PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abstract:
Un dispositif MEMS est divulgué. Le dispositif MEMS comprend un premier substrat. Au moins une structure est formée à l'intérieur du premier substrat. Le premier substrat comprend sur celui-ci au moins une première plage conductrice. Le dispositif MEMS comprend aussi un deuxième substrat. Le second substrat comprend une couche de passivation. La couche de passivation comprend une pluralité de couches. Une couche supérieure de la pluralité de couches comprend une couche d'arrêt de dégazage. Au moins une seconde plage conductrice et au moins une électrode sont couplées à la couche supérieure. Au moins une première plage conductrice est couplée à au moins une seconde plage conductrice.