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1. (WO2016122160) NOUVEAU COMPOSÉ DIOXIMESTER ET AMORCEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE CONTENANT CE COMPOSÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/122160 N° de la demande internationale : PCT/KR2016/000635
Date de publication : 04.08.2016 Date de dépôt international : 21.01.2016
CIB :
C07C 251/68 (2006.01) ,C07C 251/62 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
251
Composés contenant des atomes d'azote, liés par des liaisons doubles à un squelette carboné
32
Oximes
62
ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés
64
par des acides carboxyliques
68
avec au moins l'un des groupes carboxyle estérifiants lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
251
Composés contenant des atomes d'azote, liés par des liaisons doubles à un squelette carboné
32
Oximes
62
ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
Déposants : SAMYANG CORPORATION[KR/KR]; 31, Jong-ro 33-gil Jongno-gu Seoul 03129, KR
Inventeurs : OH, Chun Rim; KR
LEE, Deuk-Rak; KR
LEE, Min Sun; KR
LEE, Won-Jung; KR
LEE, Jae-Hoon; KR
CHO, Yong-Il; KR
Mandataire : PLUS INTERNATIONAL IP LAW FIRM; 10F, 809, Hanbat-daero Seo-gu Daejeon 35209, KR
Données relatives à la priorité :
10-2015-001219626.01.2015KR
Titre (EN) NOVEL DIOXIMESTER COMPOUND, AND PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SAME
(FR) NOUVEAU COMPOSÉ DIOXIMESTER ET AMORCEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE CONTENANT CE COMPOSÉ
(KO) 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a novel dioximester compound, and a photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same.
(FR) La présente invention concerne un nouveau composé dioximester et un amorceur de photopolymérisation et une composition de résine photosensible contenant ce composé.
(KO) 본 발명은 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)