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1. (WO2016121224) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET MICROSCOPE À BALAYAGE ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2016/121224    International Application No.:    PCT/JP2015/084072
Publication Date: Fri Aug 05 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Fri Dec 04 00:59:59 CET 2015
IPC: H01J 37/28
H01J 37/06
H01J 37/244
Applicants: MATSUSADA PRECISION, INC.
松定プレシジョン株式会社
Inventors: KUMAMOTO, Kazuya
熊本 和哉
MATSUDA, Sadayoshi
松田 定好
Title: DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET MICROSCOPE À BALAYAGE ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées selon lequel une configuration simple peut être utilisée en tant qu'unité de détection pour détecter des électrons de signal émis à partir d'un échantillon. Le dispositif à faisceau de particules chargées est doté : d'une source de particules chargées (11); d'une alimentation électrique d'accélération (14) qui est connectée à la source de particules chargées (11), et qui est conçue pour accélérer un faisceau de particules chargées (12) émis depuis la source de particules chargées (11); et d'une lentille d'objectif (26) qui focalise le faisceau de particules chargées (12) sur un échantillon (23). La lentille d'objectif (26) est disposée du côté de l'échantillon (23) opposé au côté sur lequel est incident le faisceau de particules chargées (12). Le dispositif à faisceau de particules chargées est conçu à partir : d'un dispositif supérieur qui émet le faisceau de particules chargées (12) vers l'échantillon (23); d'un dispositif inférieur sur lequel est maintenu l'échantillon (23); et d'un détecteur (20) qui détecte des électrons de signal (21) émis à partir de l'échantillon (23) consécutivement au rayonnement du faisceau de particules chargées (12). Le dispositif supérieur est pourvu d'une ouverture (18c). Le faisceau de particules chargées (12), après avoir traversé l'intérieur du dispositif supérieur, est finalement émis à partir de l'ouverture (18c). Le détecteur (20) est prévu dans un espace qui ne comprend pas le dispositif supérieur ni le dispositif inférieur.