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1. (WO2016118088) NETTOYAGE AU PLASMA MOU NON THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/118088    N° de la demande internationale :    PCT/SG2016/050029
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 22.01.2016
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : CHAN, Chia Sern [MY/SG]; (SG)
Inventeurs : CHAN, Chia Sern; (SG)
Mandataire : PYPRUS PTE LTD; 7500A, Beach Road #07-301, The Plaza Singapore 199591 (SG)
Données relatives à la priorité :
10201500483v 22.01.2015 SG
Titre (EN) NON-THERMAL SOFT PLASMA CLEANING
(FR) NETTOYAGE AU PLASMA MOU NON THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a Soft Plasma Cleaning (SPC) system (30, 130, 230) including a Guided Soft-Plasma Cleaning (G-SPC) (30). The SPC system is a non-thermal, low temperature process and operable at atmospheric pressure, in both air and liquid medium. In an embodiment, a feedstock gas (40) is supplied to provide a discharging fluid (50) in the cleaning chamber (34). A plasma guiding and amplifying component (52) guides and expands the discharging fluid to cover a large ablation area over the workpiece (32), thereby also suppressing ion and electron bombardment damage or etching. The plasma guiding and amplifying component (52) may be formed with dielectric plates or tubes (37, 56, 58), with each dielectric having an aperture (37a, 56a, 58a). The electric field and ion energy in the cleaning chamber can be additionally controlled via a floating electrode (160, 160a), so as to suppress plasma damage during SPC.
(FR)La présente invention concerne un système de nettoyage au plasma mou (SPC) (30, 130, 230) comprenant un dispositif de nettoyage au plasma mou guidé (G-SPC) (30). Le système SPC est un processus non thermique à basse température utilisable à pression atmosphérique, aussi bien dans l'air que dans un milieu liquide. Dans un mode de réalisation, un gaz de départ (40) est introduit pour produire un fluide de décharge (50) dans une chambre de nettoyage (34). Un composant de guidage et d'amplification de plasma (52) guide et étend le fluide de décharge afin de couvrir une grande zone d'ablation sur la pièce (32), ce qui permet également de supprimer un endommagement ou une gravure par bombardement ionique et électronique. Le composant de guidage et d'amplification de plasma (52) peut être formé avec des plaques ou tubes diélectriques (37, 56, 58), chaque diélectrique comportant une ouverture (37a, 56a, 58a). Le champ électrique et l'énergie des ions dans la chambre de nettoyage peuvent en outre être commandés par l'intermédiaire d'une électrode flottante (160, 160a), de manière à supprimer l'endommagement par plasma pendant le SPC.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)