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1. (WO2016117592) COMPOSITION LIQUIDE POUR FORMATION DE FILM À FAIBLE INDICE DE RÉFRACTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/117592    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/051548
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 20.01.2016
CIB :
C09D 183/06 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09K 3/18 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
Inventeurs : HIGANO Satoko; (JP).
YAMASAKI Kazuhiko; (JP).
YONEZAWA Takehiro; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-008192 20.01.2015 JP
2015-025889 13.02.2015 JP
Titre (EN) LIQUID COMPOSITION FOR FORMING LOW-REFRACTIVE FILM
(FR) COMPOSITION LIQUIDE POUR FORMATION DE FILM À FAIBLE INDICE DE RÉFRACTION
(JA) 低屈折率膜形成用液組成物
Abrégé : front page image
(EN)This liquid composition for forming a low-refractive film is prepared by: combining a hydrolysate of a silicon alkoxide with a silica sol, said hydrolysate being generated by adding a mixture of water and nitric acid to an alcohol solution of tetramethoxysilane or tetraethoxysilane serving as a silicon alkoxide and stirring the resulting product, and said silica sol being obtained by dispersing beaded colloidal silica particles in a liquid medium; and further combining with an organic solvent of a glycol ether. Said glycol ether is a solvent having a flash point between 140-160°C inclusive.
(FR) Cette composition liquide pour formation de film à faible indice de réfraction est préparée par mélange d'un hydrolysat d'alcoxyde de silicium produit par ajout d'un mélange d'eau et d'acide nitrique à une solution alcoolique de tétraméthoxysilane ou de tétraéthoxysilane en tant qu'alcoxyde de silicium, puis agitation du mélange susmentionné, et d'un sol de silice dans lequel des particules de silice colloïdale sous forme de billes sont dispersées dans un milieu liquide, un solvant organique d'éther glycolique étant ensuite amalgamé. Cet éther glycolique est un solvant présentant un point éclair supérieur ou égal à 140℃ et inférieur ou égal à 160℃.
(JA) この低屈折率膜形成用液組成物は、ケイ素アルコキシドとしてのテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランのアルコール溶液に水と硝酸との混合物を添加して攪拌することにより生成されたケイ素アルコキシドの加水分解物と、数珠状コロイダルシリカ粒子が液体媒体中に分散したシリカゾルとを混合し、更にグリコールエーテルの有機溶媒を混合して調製される。前記グリコールエーテルは140℃以上160℃以下の引火点を有する溶媒である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)