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1. (WO2016117589) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET SUSCEPTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/117589    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/051531
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 20.01.2016
CIB :
H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Déposants : HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1058039 (JP)
Inventeurs : INADA, Tetsuaki; (JP).
YANAGISAWA, Yoshihiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-010754 22.01.2015 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUSCEPTOR
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET SUSCEPTEUR
(JA) 基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びサセプタ
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a technique with which it is possible to prevent a substrate placed in a concave part of a susceptor from being propelled outwards by centrifugal force due to rotation of the susceptor. [Solution] A susceptor mounted on a substrate processing device and provided so as to rotate is equipped with: a concave part into which a substrate is placed, the concave part being provided on the upper surface of the susceptor and arranged about the center of rotation of the susceptor; and a convex part provided so as to be in contact with the outer periphery of the concave part, the convex part protruding on the upper surface of the susceptor.
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de la présente invention consiste à fournir une technique permettant d'empêcher un substrat placé dans une partie concave d'un suscepteur d'être propulsé vers l'extérieur par la force centrifuge due à la rotation du suscepteur. Par conséquent, d'après la présente invention, un suscepteur monté sur un dispositif de traitement de substrat et disposé de manière à tourner comprend : une partie concave dans laquelle est placé un substrat, la partie concave étant située sur la surface supérieure du suscepteur et agencée autour du centre de rotation du suscepteur; et une partie convexe disposée de manière à être en contact avec la périphérie extérieure de la partie concave, la partie convexe faisant saillie sur la surface supérieure du suscepteur.
(JA)[課題]サセプタの回転に伴う遠心力によりサセプタの凹部に載置された基板が外側に飛び出すことを抑制できる技術を提供する。 [解決手段]基板処理装置に搭載され回転するように設けられるサセプタは、サセプタの上面に設けられ、サセプタの回転の中心に対してその周囲に配置される、基板が載置されるための凹部と、凹部の外周に接するように設けられ、サセプタの上面において突出する凸部と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)