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1. (WO2016117486) STRUCTURE POREUSE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/117486    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/051220
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 18.01.2016
CIB :
B32B 3/24 (2006.01), B01D 39/10 (2006.01), B81B 1/00 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : BANJU, Masaru; (JP).
KAWARA, Naoki; (JP).
KONDO, Takashi; (JP).
KAMBA, Seiji; (JP)
Mandataire : FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-007459 19.01.2015 JP
Titre (EN) POROUS STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) STRUCTURE POREUSE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 多孔質構造体およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A membranous porous structure having a first main surface and a second main surface that face each other, wherein the porous structure is provided with a membranous first layer including the first main surface and having multiple first void portions penetrating in the normal direction to the first main surface, and a membranous second layer including the second main surface and having multiple second void portions penetrating in the normal direction to the second main surface, the first layer and the second layer being directly or indirectly bonded to each other, each of the multiple first void portions overlapping two or more of the multiple second void portions in a planar view seen from the normal direction to the first main surface, each of the multiple second void portions overlapping two or more of the multiple first void portions in a planar view seen from the normal direction to the second main surface, and through-holes penetrating the first main surface and the second main surface being present in portions in which the multiple first void portions and the multiple second void portions overlap each other.
(FR)L'invention concerne une structure poreuse membraneuse comportant une première surface principale et une seconde surface principale situées en regard l'une de l'autre, la structure poreuse étant pourvue d'une première couche membraneuse comprenant la première surface principale et comportant de multiples premières parties vides pénétrant dans la direction normale à la première surface principale, et d'une seconde couche membraneuse comprenant la seconde surface principale et comportant de multiples secondes parties vides pénétrant dans la direction normale à la seconde surface principale, la première couche et la seconde couche étant directement ou indirectement liées l'une à l'autre, chacune des multiples premières parties vides chevauchant au moins deux parties vides parmi les multiples secondes parties vides dans une vue plane observée depuis la direction normale à la première surface principale, chacune des multiples secondes parties vides chevauchant au moins deux parties vides parmi les multiples premières parties vides dans une vue plane observée depuis la direction normale à la seconde surface principale, et des trous traversants pénétrant dans la première surface principale et la seconde surface principale étant présents dans les parties dans lesquelles les multiples premières parties vides et les multiples secondes parties vides se chevauchent les unes les autres.
(JA) 互いに対向する第1主面および第2主面を有する膜状の多孔質構造体であって、第1主面を含み、第1主面の法線方向に貫通する複数の第1空隙部を有する膜状の第1層と、第2主面を含み、第2主面の法線方向に貫通する複数の第2空隙部を有する膜状の第2層とを備え、第1層と第2層とは、直接的または間接的に結合しており、第1主面の法線方向から見た平面視において、複数の第1空隙部の各々は複数の第2空隙部のうちの2つ以上と重なっており、第2主面の法線方向から見た平面視において、複数の第2空隙部の各々は複数の第1空隙部のうちの2つ以上と重なっており、複数の第1空隙部と複数の第2空隙部とが重なっている部分において、第1主面および第2主面を貫通する貫通孔を有している、多孔質構造体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)