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1. (WO2016116384) CHAMBRE À VIDE MUNIE D'UNE STRUCTURE PARTICULIÈRE PERMETTANT D'AUGMENTER L'ÉVACUATION DE LA CHALEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/116384    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/050841
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 15.01.2016
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01)
Déposants : OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON [--/CH]; Churerstrasse 120 8808 Pfäffikon SZ (CH)
Inventeurs : KRASSNITZER, Siegfried; (AT).
ESSELBACH, Markus; (AT)
Mandataire : IRSCH, Manfred; (CH)
Données relatives à la priorité :
62/104,918 19.01.2015 US
62/117,571 18.02.2015 US
Titre (DE) VAKUUMKAMMER MIT BESONDERER GESTALTUNG ZUR ERHÖHUNG DER WÄRMEABFÜHRUNG
(EN) VACUUM CHAMBER HAVING A SPECIAL DESIGN FOR INCREASING THE REMOVAL OF HEAT
(FR) CHAMBRE À VIDE MUNIE D'UNE STRUCTURE PARTICULIÈRE PERMETTANT D'AUGMENTER L'ÉVACUATION DE LA CHALEUR
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vakuumkammer zur Behandlung von Substraten, welche mindestens folgende Elemente umfasst: -Wärmezuführungselementezur Wärmezuführung in einen Behandlungsbereichder Vakuumkammer, in dem mindestens ein Substrat (10)behandelt werden kann, -eine Kammerwand (20), durch die Wärme aus dem Behandlungsbereich abgeführt werden kann, welche eine innere und eine äussere Kammerwandseite umfasst, und -eine Abschirmungswand (30), welche zwischen der Kammerwand (20) und dem Behandlungsbereich angeordnet ist, dergestalt dass eine hinsichtlich des Behandlungsbereichs abgewandten Abschirmungswandseite gegenüber der inneren Kammerwandseite gestellt ist, dadurch gekennzeichnet, dass -die gegenüber der inneren Kammerwandseite gestellte Abschirmungswandseite zumindest teilweise, vorzugsweise grösstenteils mit einer ersten Schicht (31) versehen ist, welche einen Emissionskoeffizient ε ≥0.65 aufweist.
(EN)The invention relates to a vacuum chamber for treating substrates, which comprises at least the following elements: heat-feeding elements for feeding heat into a treatment region of the vacuum chamber, in which treatment region at least one substrate (10) can be treated; a chamber wall (20), through which the heat can be removed from the treatment region and which has an inner chamber wall side and an outer chamber wall side; and a shielding wall (30), which is arranged between the chamber wall (20) and the treatment region in such a way that a shielding wall side facing away from the treatment region is placed facing the inner chamber wall side, characterized in that the shielding wall side placed facing the inner chamber wall side is at least partially, preferably largely, provided with a first layer (31), which has an emissivity ε ≥ 0.65.
(FR)L'invention concerne un chambre à vide servant au traitement de substrats et comprenant au moins les éléments suivants : - des éléments d'alimentation en chaleur servant à alimenter en chaleur une zone de traitement de la chambre à vide dans laquelle au moins un substrat (10) peut être traité, - une paroi de chambre (20) à travers laquelle la chaleur peut être évacuée de la zone de traitement et qui présente une face intérieure et une face extérieure de paroi de chambre, - et une paroi de protection (30) qui est agencée entre la paroi de chambre (20) et la zone de traitement et conçue de telle manière qu'une face de paroi de protection opposée à la zone de traitement est placée contre la face intérieure de chambre à vide. La chambre à vide est caractérisée en ce que la face de paroi de protection placée contre la face intérieure de chambre à vide est munie au moins en partie, de préférence en grande partie, d'une première couche (31) qui présente un coefficient d'émission ε ≥0,65.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)