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1. (WO2016116373) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/116373    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/050796
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 15.01.2016
CIB :
C23C 16/52 (2006.01), C23C 16/46 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), G01J 5/00 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01), C30B 25/10 (2006.01)
Déposants : AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath (DE)
Inventeurs : THERES, Arne; (DE).
LANGNER, Jost-Martin; (DE).
LÜNENBÜRGER, Markus; (DE)
Mandataire : GRUNDMANN, Dirk; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2015 100 640.5 19.01.2015 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM THERMISCHEN BEHANDELN VON SUBSTRATEN
(EN) APPARATUS AND METHOD FOR THERMALLY TREATING SUBSTRATES
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Behandeln von ein oder mehreren Substraten (2), mit einer Prozesskammer (3) und einem Suszeptor (1), der von einer, mehrere Zonen-Heizeinrichtungen (4') aufweisenden Heizeinrichtung (4) beheizbar ist, wobei eine erste Zonen-Heizeinrichtung (4') eine erste Zone (A) des Suszeptors (1) beheizt und eine zweite Zonen-Heizeinrichtung (4') eine zweite Zone (B) des Suszeptors (1) beheizt, wobei jeder Zone (A, B) eine Regeleinrichtung (5) zugeordnet ist, deren Regelgröße eine mit mindestens einer Temperatur-Messeinrichtung (6) auf der ersten Seite (1') der jeweiligen Zone (A, B) gemessene Temperatur ist, die durch Steuern der in die zugeordnete Zonen-Heizeinrichtung (4') eingespeiste Heizleistung aufeinen Sollwert geregelt wird. Es wird vorgeschlagen, dass die Regelgröße der zweiten Zone (B) eine Temperatur der freien Oberfläche des Substrates (2) ist und zusätzlich eine Temperatur der freien Oberfläche der ersten Seite (1') des Suszeptors (1) in der zweiten Zone (B) gemessen wird und der Sollwert der der ersten Zone (A) zugeordneten Regeleinrichtung (5) zumindest einen Beitrag aus dem Wert der Temperatur der freien Oberfläche der ersten Seite (1') des Suszeptors(1) in der zweite Zone besitzt.
(EN)The invention relates to an apparatus and a method for treating one or more substrates (2), comprising a process chamber (3) and a susceptor (1) which can be heated by a heating device (4) which comprises a plurality of zone heating devices (4'), wherein a first zone heating device (4') heats a first zone (A) of the susceptor (1) and a second zone heating device (4') heats a second zone (B) of the susceptor (1), wherein a control device (5) is associated with each zone (A, B), the control variable of said control device being a temperature measured with at least one temperature measuring device (6) on the first side (1') of each zone (A, B), which temperature is regulated to a target value by controlling the heating power fed into the associated zone heating device (4'). It is proposed that the control variable of the second zone (B) is a temperature of the free surface of the substrate (2) and, in addition, a temperature of the free surface of the first side (1') of the susceptor (1) is measured in the second zone (B) and the target value of the control device (5) associated with the first zone (A) has at least one contribution from the value of the temperature of the free surface of the first side (1') of the susceptor (1) in the second zone.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé de traitement d'un ou de plusieurs substrats (2). Le dispositif comprend une chambre de traitement (3) et un suscepteur (1) qui peut être chauffé par un moyen chauffant (4) qui comporte une pluralité de moyens de chauffage de zones (4’). Un premier moyen de chauffage de zones (4') chauffe une première zone (A) du suscepteur (1) et un second moyen de chauffage de zones (4') chauffe une seconde zone (B) du suscepteur (1). À chaque zone (A, B) est associée un moyen de régulation (5) dont la grandeur de régulation est une température qui est mesurée au moyen d’au moins un moyen de mesure de température (6) sur le premier côté (1’) de la zone respective (A, B) et qui est régulée à une valeur de consigne par commande de la puissance de chauffage injectée dans le moyen de chauffage de zone (4’) associée. Selon l’invention, la grandeur de régulation de la seconde zone (B) est la température de la surface libre du substrat (2) et, en outre, on mesure la température de la surface libre du premier côté (1’) du suscepteur (1) dans la seconde zone (B) et la valeur de consigne du moyen de régulation (5), associé à la première zone (A), est au moins égale à la valeur de la température de la surface libre du premier côté (1’) du suscepteur (1) dans la seconde zone.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)